SI PEALD等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)能夠在低溫下均勻且貼合地涂層敏感基底和層。樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，無(wú)需紫外線或離子轟擊。

SI PEALD等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)主要特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)

PEALD用于敏感基底

SENTECH SI PEALD系統(tǒng)采用真正的遠(yuǎn)程等離子源，能夠在低溫<100°C下均勻且貼合地覆蓋敏感基底和層層。 樣品表面提供高通量的活性氣體，無(wú)需紫外線或離子轟擊。

原子層沉積（ALD）用于精確、共形和均勻沉積

ALD沉積技術(shù)的特點(diǎn)是能夠在原子層面精確控制厚度，沉積出共形和均勻薄膜，并且在半導(dǎo)體器件如高介電材料沉積中持續(xù)發(fā)揮重要作用。ALD的主要應(yīng)用包括傳感器、光電子學(xué)和二維材料。

工藝開(kāi)發(fā)與優(yōu)化的原位診斷

AL實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的原位診斷實(shí)現(xiàn)了單次ALD循環(huán)的超高分辨率。其優(yōu)勢(shì)包括確認(rèn)ALD制度、縮短處理時(shí)間以及整體擁有成本。光譜橢偏儀也作為原位診斷技術(shù)提供，對(duì)我們的原子層沉積系統(tǒng)具有特殊優(yōu)勢(shì)。

輕松清理反應(yīng)堆

定期清洗反應(yīng)堆對(duì)于穩(wěn)定且可重復(fù)的原子層沉積處理至關(guān)重要。通過(guò)提升裝置，反應(yīng)堆室可以輕松打開(kāi)，用于清潔我們的原子層沉積系統(tǒng)。

集群積分

原子層沉積系統(tǒng)作為SENTECH集群工具的模塊提供。我們的原子層沉積系統(tǒng)可與SENTECH的PECVD和蝕刻系統(tǒng)結(jié)合，應(yīng)用于工業(yè)應(yīng)用。集群工具可選支持磁帶到磁帶加載。

手套箱系統(tǒng)集成

SENTECH ALD系統(tǒng)兼容多家供應(yīng)商的手套箱。