PlasmaPro 80 ICPCVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PlasmaPro 80 ICPCVD化學氣相沉積系統(tǒng)是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠...
PlasmaPro 100 ICPCVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PlasmaPro 100 ICPCVD化學氣相沉積系統(tǒng)設計用于在低生長溫度下生產高質量的薄膜，通過高密度遠程等離子體實現，從而實現優(yōu)秀的薄膜質量，同時減少基板...
PlasmaPro 100 PECVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PlasmaPro 100 PECVD化學氣相沉積系統(tǒng)設計PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、應力、電學特性和濕法化學刻蝕速率的前提下，生產均...
PlasmaPro 80 PECVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PlasmaPro 80 PECVD化學氣相沉積系統(tǒng)是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。
PlasmaPro 800 PECVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PlasmaPro 800 PECVD化學氣相沉積系統(tǒng)為大批量晶圓和 300mm 晶圓的等離子增強化學氣相沉積 （PECVD） 工藝提供了靈活的解決方案，它采用...
Atomfab ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Atomfab ALD原子層沉積系統(tǒng)為GaN功率器件和射頻器件提供快速、低損傷、低運營維護成本的等離子體原子層沉積（ALD）加工。
PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng)基于經過生產驗證的企業(yè)/專業(yè)研發(fā)平臺，旨在形成可集成到器件中的優(yōu)質薄膜。它足夠靈活，可以進行多種化學反應，并可實...
FlexAL ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
FlexAL ALD原子層沉積系統(tǒng)可提供遠程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結構和器件的工程設計提供了一系列新的靈活性和可行性。
PlasmaPro 100 Cobra感應耦合等離子刻蝕 參考價：面議
PlasmaPro 100 Cobra感應耦合等離子刻蝕是英國牛津儀器公司推出的一款高性能、高靈活性的電感耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)。它主要服務于優(yōu)良半導體、微機電系...
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