UVC Series紫外線固化爐 參考價(jià)：面議
UVC Series紫外線固化爐外形緊湊，能對(duì)應(yīng)G4.5～G10.5范圍內(nèi)的Panel規(guī)格，設(shè)備提供的UV照射光強(qiáng)充足均勻，能準(zhǔn)確量化監(jiān)控，并實(shí)現(xiàn)光路照度調(diào)節(jié)閉...
CVI Series裝載卸載設(shè)備 參考價(jià)：面議
CVI Series裝載卸載設(shè)備是連接工藝設(shè)備（EQ）和智能化物流倉(cāng)儲(chǔ)系統(tǒng)（STK），使設(shè)備工藝制程順利完成的系統(tǒng)。Indexer由Port和Fence兩部分組...
EPEE i200等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
EPEE i200等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉積工藝，平臺(tái)式多反應(yīng)腔架構(gòu)，兼容Si、Si...
eVictor Series 8英寸物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
eVictor Series 8英寸物理氣相沉積系統(tǒng)主要用于8英寸晶圓金屬薄膜沉積工藝。該機(jī)臺(tái)為多腔室前后雙平臺(tái)結(jié)構(gòu)，可支持10個(gè)工藝模塊，能夠進(jìn)行全自動(dòng)工藝處...
QL 氣路測(cè)量控制管線系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
QL 氣路測(cè)量控制管線系統(tǒng)是七星流量計(jì)開(kāi)發(fā)的氣路輸送系統(tǒng)的解決方案，該產(chǎn)品通過(guò)對(duì)氣路原理圖的設(shè)計(jì)、加工和測(cè)試，以隔膜閥、調(diào)壓閥、壓力傳感器、過(guò)濾器、MFC等零部...
DS300 壓力式質(zhì)量流量控制器 參考價(jià)：面議
DS300 壓力式質(zhì)量流量控制器是針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)開(kāi)發(fā)的一款適用于半導(dǎo)體裝備的氣體質(zhì)量流量控制器。DS300采用基于壓力原理的流量傳感器技術(shù)和高精度壓電閥控制技術(shù)...
CS330數(shù)字式質(zhì)量流量控制器 參考價(jià)：面議
CS330數(shù)字式質(zhì)量流量控制器是七星華創(chuàng)流量計(jì)研發(fā)的數(shù)字型產(chǎn)品，流量可達(dá)200SLM（氮?dú)猓?，并可?shí)現(xiàn)數(shù)字/模擬控制模式；產(chǎn)品可用于測(cè)量各種氣體的流量，包括惰性...
WS-ALN100150倒片機(jī)設(shè)備 參考價(jià)：面議
WS-ALN100150倒片機(jī)設(shè)備中包含1臺(tái)6軸機(jī)械手組件，設(shè)備前端設(shè)有6個(gè)Loadport工位，每3個(gè)對(duì)應(yīng)1個(gè)腔室。設(shè)有2個(gè)Buffer工位，每個(gè)Buffer...
TAU Series離子微粒吸附設(shè)備 參考價(jià)：面議
TAU Series離子微粒吸附設(shè)備在面板生產(chǎn)中主要應(yīng)用于曝光機(jī)設(shè)備，用于去除空氣中可能會(huì)降低曝光機(jī)鏡組折射率的有害物質(zhì)。同時(shí)具有精確控制溫度和控制濕度的功能。
TRU Series熱回收系統(tǒng)設(shè)備 參考價(jià)：面議
Oven設(shè)備是目前TFT產(chǎn)線耗電量較大的設(shè)備，Oven設(shè)備熱排管道排出的是230℃的高溫有機(jī)廢氣（光刻膠升華物），大量的熱能被浪費(fèi)掉。在排氣管路上安裝熱能回收的...
Hesper TO230R 單片減壓濕法氧化擴(kuò)散系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Hesper TO230R 單片減壓濕法氧化擴(kuò)散系統(tǒng)適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、科研等領(lǐng)域，單腔或多腔多種設(shè)計(jì)，可滿足不同客戶需求，低擁有成本和低運(yùn)營(yíng)...
Booster SWA單片退火系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Booster SWA單片退火系統(tǒng)主要用于12英寸后段金屬互聯(lián)退火工藝。該機(jī)臺(tái)為多腔集群設(shè)備，能夠進(jìn)行全自動(dòng)并行工藝處理。系統(tǒng)主要由傳輸模塊和3個(gè)工藝模塊組成，...
AGF Series電阻式SiC長(zhǎng)晶爐 參考價(jià)：面議
AGF Series電阻式SiC長(zhǎng)晶爐適用于6/8英寸導(dǎo)電和高純半絕緣型SiC晶體生長(zhǎng)，多加熱器設(shè)計(jì)允許靈活的工藝和熱場(chǎng)設(shè)置，下裝載結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)便捷的開(kāi)裝爐及維護(hù)...
SC3080 12英寸單片清洗設(shè)備 參考價(jià)：面議
SC3080 12英寸單片清洗設(shè)備可同時(shí)配備多種藥液，主要用于12英寸后段和前段清洗工藝。該機(jī)臺(tái)主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給模塊、電源柜等組成，標(biāo)配8個(gè)腔...
Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備 參考價(jià)：面議
Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機(jī)臺(tái)主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源柜...
APS Series感應(yīng)式SiC長(zhǎng)晶爐 參考價(jià)：面議
APS Series感應(yīng)式SiC長(zhǎng)晶爐適用于6/8英寸導(dǎo)電和高純半絕緣型SiC晶體生長(zhǎng)，創(chuàng)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可提供高純材料生長(zhǎng)能力，擁有高精度的控溫、控壓能力，工藝...
NVT-HG單晶生長(zhǎng)爐 參考價(jià)：面議
NVT-HG單晶生長(zhǎng)爐主于光伏產(chǎn)業(yè)8-12英寸單晶硅制備工藝，該機(jī)臺(tái)具有大投料量，高拉速，低能耗，自動(dòng)化、智能化的優(yōu)點(diǎn)。能夠進(jìn)行全自動(dòng)并進(jìn)行工藝處理。系統(tǒng)主要由...
GAMA Series 6/8英寸全自動(dòng)槽式清洗機(jī) 參考價(jià)：面議
GAMA Series 6/8英寸全自動(dòng)槽式清洗機(jī)滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應(yīng)用，可用于典型0.35...
HORIC L200臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
HORIC L200臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，主要用于半導(dǎo)體產(chǎn)線8英寸及以下晶圓淀積SiN、POLY、SiO?等薄膜，設(shè)備工藝性能好、產(chǎn)能大、可靠性高，可滿足半...
Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)主要用于體硅外延、埋層外延、選擇性外延等多種特色工藝的運(yùn)行。該設(shè)備主要由傳輸系統(tǒng)模塊、工藝腔室模塊、壓力控制模...
eVictor PVD Al金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
eVictor PVD Al金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)，適用于12英寸集成電路領(lǐng)域，是一款PVD設(shè)備。該系統(tǒng)集成高溫去氣、等離子體預(yù)清洗、高溫Al、TaN、TT...
NMC 508RIE介質(zhì)等離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
NMC 508RIE介質(zhì)等離子刻蝕機(jī)為電容耦合等離子體干法刻蝕機(jī)，適用6/8英寸介質(zhì)層刻蝕工藝，具有高刻蝕速率和均勻性，工藝類型覆蓋前道和后道所有介質(zhì)刻蝕。該機(jī)...
NMC 508M金屬等離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
NMC 508M金屬等離子刻蝕機(jī)，適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝。具備良好的鋁線形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢(shì)。該機(jī)臺(tái)為多腔室集...
NMC 508CG多晶硅等離子硅刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
NMC 508CG多晶硅等離子硅刻蝕機(jī)適用6/8英寸多晶硅、硅等干法刻蝕工藝。具備良好的形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢(shì)。該機(jī)臺(tái)為...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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