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MiniLab 090 PVD物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
MiniLab 090 PVD物理氣相沉積系統(tǒng)兼容手套箱，適用于直徑達(dá)11英寸的亞態(tài)的環(huán)境敏感應(yīng)用。高腔室非常適合高效蒸發(fā)，但磁控管濺射也可用。
MiniLab 080 PVD物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
MiniLab 080 PVD物理氣相沉積系統(tǒng)提供高密度腔體，非常適合熱、LTE和電子束蒸發(fā)技術(shù)，需要更長(zhǎng)的工作距離以實(shí)現(xiàn)最佳均勻性。
MiniLab 070 PVD物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
MiniLab 070 PVD物理氣相沉積系統(tǒng)采用前置箱式腔室，針對(duì)直徑最大11英寸的亞態(tài)進(jìn)行磁控管濺射優(yōu)化。
MiniLab 026 PVD物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
MiniLab 026 PVD物理氣相沉積系統(tǒng)是緊湊型落地式真空蒸發(fā)器，配備易于取用的“蛤殼"腔室。適用于金屬、介質(zhì)和有機(jī)物的蒸發(fā)或?yàn)R射沉積技術(shù)。
nano PVD-S10A物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
nano PVD-S10A物理氣相沉積系統(tǒng)是一款臺(tái)式系統(tǒng)，優(yōu)化用于金屬和絕緣材料的射頻和直流磁控管濺射。體積緊湊如電子顯微鏡涂層機(jī)，但配備先進(jìn)硬件以實(shí)現(xiàn)研究級(jí)效...
nano PVD-T15A物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
nano PVD-T15A物理氣相沉積系統(tǒng)是一種臺(tái)式蒸發(fā)系統(tǒng)，優(yōu)化用于沉積各種高熔點(diǎn)金屬和揮發(fā)性有機(jī)物。體積緊湊如電子顯微鏡涂層機(jī)，但配備優(yōu)良硬件以實(shí)現(xiàn)研究級(jí)效...
NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
單靶 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統(tǒng)為多種薄膜沉積應(yīng)用提供了最大靈活性。NEXUS PVD支持200毫米，具備先進(jìn)的工藝能力、出色的均勻性和多種沉積模式...
PVD-BATCH DRUM SERIES物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
PVD-BATCH DRUM SERIES物理氣相沉積系統(tǒng)由兩種標(biāo)準(zhǔn)尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。當(dāng)顆粒物是一個(gè)主要問(wèn)...
Super-SPECTROS™ 200物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Super-SPECTROS? 200物理氣相沉積系統(tǒng)是一套優(yōu)良的有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)，針對(duì)有機(jī)材料沉積進(jìn)行了優(yōu)化。它能夠?qū)崿F(xiàn)精確的薄膜沉積控制，可沉積多種...
SPECTROS™ 150物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
SPECTROS? 150物理氣相沉積系統(tǒng)是基于SPECTROS平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺(tái)在全球服役超過(guò)100臺(tái)，是一款經(jīng)過(guò)驗(yàn)證、堅(jiān)固且多功...
Mini SPECTROS物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Mini SPECTROS物理氣相沉積系統(tǒng)是基于主力SPECTROS平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺(tái)在全球服役超過(guò)100臺(tái)，是一款經(jīng)過(guò)驗(yàn)證、堅(jiān)固且...
CMS Series物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
CMS Series物理氣相沉積系統(tǒng)極其強(qiáng)大的優(yōu)良研究工具設(shè)計(jì)用于適應(yīng)特定的薄膜應(yīng)用，如 GMR、CMS、半導(dǎo)體、納米級(jí)器件、光子學(xué)和光伏。經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試和驗(yàn)證的...
LAB Line物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
LAB Line物理氣相沉積系統(tǒng)專(zhuān)為磁控管濺射沉積設(shè)計(jì)。該創(chuàng)新設(shè)計(jì)的優(yōu)勢(shì)包括專(zhuān)為超高真空濺射工藝需求量身定制的腔體設(shè)計(jì)、業(yè)內(nèi)最佳軟件控制系統(tǒng)、具備*編程功能、負(fù)...
PRO Line PVD 200物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
PRO Line PVD 200物理氣相沉積系統(tǒng)是一款模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng)，支持8英寸晶圓轉(zhuǎn)印、最多8個(gè)濺射陰極和eKLipse高級(jí)控制軟件。全球服役...
PRO Line PVD 75物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
PRO Line PVD 75物理氣相沉積系統(tǒng)是基于主力PVD 75平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。PVD 75在全球服役超過(guò)400臺(tái)，是一款經(jīng)過(guò)驗(yàn)證、堅(jiān)固且多功能的...
NANO 36™物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
NANO 36?物理氣相沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門(mén)級(jí)沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計(jì)特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實(shí)惠的價(jià)格點(diǎn)...
MiniLab 125物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
MiniLab 125物理氣相沉積系統(tǒng)優(yōu)化為多技術(shù)應(yīng)用，采用模塊化磁控管濺射和熱蒸發(fā)PVD系統(tǒng)，適用于直徑最大11英寸的基板。
SD-650MHT物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
SD-650MHT物理氣相沉積系統(tǒng)采用*的機(jī)械設(shè)計(jì)和精密控制系統(tǒng)，具備出色的真空水平和穩(wěn)定的氣體控制能力。其核心部件包括旋轉(zhuǎn)真空泵和渦輪分子泵的組合，能夠快速實(shí)...
ATC Flagship Series物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
ATC Flagship Series物理氣相沉積系統(tǒng)可根據(jù)多種配置建造以滿足大多數(shù)需求。這些系統(tǒng)圍繞AJA獨(dú)特的A300-XP（UHV）或Stiletto系列...
eVictor Series 8英寸物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
eVictor Series 8英寸物理氣相沉積系統(tǒng)主要用于8英寸晶圓金屬薄膜沉積工藝。該機(jī)臺(tái)為多腔室前后雙平臺(tái)結(jié)構(gòu)，可支持10個(gè)工藝模塊，能夠進(jìn)行全自動(dòng)工藝處...
eVictor PVD Al金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
eVictor PVD Al金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)，適用于12英寸集成電路領(lǐng)域，是一款PVD設(shè)備。該系統(tǒng)集成高溫去氣、等離子體預(yù)清洗、高溫Al、TaN、TT...
Polaris Series硅通孔物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Polaris Series硅通孔物理氣相沉積系統(tǒng)主要由大氣平臺(tái)，真空傳輸平臺(tái)，去氣腔室，預(yù)清潔腔室和工藝腔室組成，設(shè)備采用Cluster Tool結(jié)構(gòu)，可配置...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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