SIPAR ICP化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
SIPAR ICP化學氣相沉積系統(tǒng)開發(fā)并設(shè)計適用于多種沉積模式和工藝，采用靈活的系統(tǒng)架構(gòu)。該工具包括ICP等離子體源PTSA、一個動態(tài)溫控基板電極和一個全部控制...
Depolab 200 PECVD 開放蓋化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Depolab 200 PECVD 開放蓋化學氣相沉積系統(tǒng)具有堅固的設(shè)計、可靠性和靈活的軟硬件。該系統(tǒng)開發(fā)了多種工藝，例如高品質(zhì)氮化硅和氧化硅層沉積。該系統(tǒng)包括...
SI 500 D ICPECVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
SI 500 D ICPECVD化學氣相沉積系統(tǒng)代表了感應(yīng)耦合等離子體（ICP）處理在研究和工業(yè)領(lǐng)域的前沿地位，用于等離子體增強化學氣相沉積，涵蓋介電薄膜、非硅...
SILAYO PEALD 光學涂層原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
SILAYO PEALD 光學涂層原子層沉積系統(tǒng)擴展了 SENTECH ALD 和 PEALD 產(chǎn)品組合，適用于 330 毫米基底和三維基底的沉積。
SI PEALD等離子體增強原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
SI PEALD等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)能夠在低溫下均勻且貼合地涂層敏感基底和層。樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，無需紫外線或離子轟擊。
Beneq C2R ALD空間原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Beneq C2R ALD空間原子層沉積系統(tǒng)將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子...
Genesis ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Genesis ALD原子層沉積系統(tǒng)適用于電池、太陽能和柔性電子設(shè)備的功能性ALD涂層。Genesis ALD非常適合涂覆任何卷狀基材，并適用于多種功能應(yīng)用。
Beneq P1500 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Beneq P1500 ALD原子層沉積系統(tǒng)是我們最大的ALD系統(tǒng)，專門用于涂層大片板材和復(fù)雜零件。它還設(shè)計用于提高批量較小部件的吞吐量。我們的客戶使用P150...
Beneq P800 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Beneq P800 ALD原子層沉積系統(tǒng)專門設(shè)計用于涂覆復(fù)雜形狀的大件或大批量的小件。我們的客戶使用P800用于光學涂層、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐蝕涂層，以及用于...
Beneq P400A ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Beneq P400A ALD原子層沉積系統(tǒng)專為不同類型的基材進行優(yōu)化批次尺寸的涂層而設(shè)計——體積足夠大以提供顯著容量，同時又足夠小以保持批次間優(yōu)異的均勻性和短...
Beneq Transform® 300 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Beneq Transform? 300 ALD原子層沉積系統(tǒng)是一款高度多功能的制造平臺，面向?qū)Ｗ⒂?CIS、電源、微型 OLED/LED、優(yōu)良封裝及其他 Mt...
Beneq TFS 500 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Beneq TFS 500 ALD原子層沉積系統(tǒng)是一款經(jīng)過驗證且適應(yīng)性強的ALD反應(yīng)堆，適合高級研究和可靠的批次處理。作為Beneq反應(yīng)堆系列的原始型號，它在多...
Beneq Prodigy™ ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Beneq Prodigy? ALD原子層沉積系統(tǒng)是VCSEL、LED和MEMS制造商及代工廠的理想制造解決方案，旨在通過一款經(jīng)濟實惠的獨立ALD批處理工具提升...
Beneq Transform ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Beneq Transform ALD原子層沉積系統(tǒng)是一款A(yù)LD集群工具，專為電力電子（SiC、GaN、Si）、射頻、光電子、微型LED、MEMS和傳感器領(lǐng)域的...
Atomfab ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Atomfab ALD原子層沉積系統(tǒng)為GaN功率器件和射頻器件提供快速、低損傷、低運營維護成本的等離子體原子層沉積（ALD）加工。
PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng)基于經(jīng)過生產(chǎn)驗證的企業(yè)/專業(yè)研發(fā)平臺，旨在形成可集成到器件中的優(yōu)質(zhì)薄膜。它足夠靈活，可以進行多種化學反應(yīng)，并可實...
FlexAL ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
FlexAL ALD原子層沉積系統(tǒng)可提供遠程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計提供了一系列新的靈活性和可行性。
Fiji ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Fiji ALD原子層沉積系統(tǒng)是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng)，采用靈活的架構(gòu)和多種前驅(qū)體和等離子體氣體配置，可適應(yīng)各種沉積模式。Fiji 是下一代 ALD...
Savannah ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Savannah ALD原子層沉積系統(tǒng)已成為全球從事ALD研究、尋求經(jīng)濟實惠且穩(wěn)健平臺的大學研究人員優(yōu)先的系統(tǒng)。過去十年中，我們已交付數(shù)百套此類系統(tǒng)。Savan...
Phoenix ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Phoenix ALD原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計旨在實現(xiàn)高通量和最大運行時間，適用于從試點生產(chǎn)到工業(yè)級制造的任何制造環(huán)境。Phoenix?支持多達六條獨立前驅(qū)體線，根據(jù)...
ALD-150LE™原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
ALD-150LE?原子層沉積系統(tǒng)是我們實惠但極其靈活性的原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，專為入門到中級用戶設(shè)計。該ALD150LE?配置為純熱ALD設(shè)計，其獨特的工...
ALD-150LX™原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
ALD-150LX?原子層沉積系統(tǒng)是一套專為優(yōu)良研發(fā)（R&D）應(yīng)用設(shè)計的原子層沉積（ALD）系統(tǒng)。創(chuàng)新的ALD150LX設(shè)計特性，如我們的前體聚焦技術(shù)?，以及超...
PVD-BATCH DRUM SERIES物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PVD-BATCH DRUM SERIES物理氣相沉積系統(tǒng)由兩種標準尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。當顆粒物是一個主要問...
Super-SPECTROS™ 200物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Super-SPECTROS? 200物理氣相沉積系統(tǒng)是一套優(yōu)良的有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)，針對有機材料沉積進行了優(yōu)化。它能夠?qū)崿F(xiàn)精確的薄膜沉積控制，可沉積多種...
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