DE600CL 多電子槍蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配置三（四或六）個電子束蒸發(fā)源，可在基片共蒸發(fā)金屬、半導體或介質(zhì)材料。
1、核心配置
- 電子槍：三個（或四個）（或六個）
- 鍍膜環(huán)境：高真空或超高真空
- 樣品處理：可高溫加熱、可低溫冷卻
- 鍍膜性能：優(yōu)質(zhì)薄膜質(zhì)量，具備良好的膜厚均勻性和重復性；高精度鍍膜速率和膜厚控制
2、可選功能
- 送樣功能：可選LOAD LOCK，全自動送樣
- 清洗功能：可選離子束清洗或輔助沉積、可選RF等離子體清洗
3、控制方式
- PLC+PC全自動控制
4、主要技術(shù)指標
- 極限真空度：3E-8Torr
- 基片尺寸：可選：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
- 膜厚均勻性：優(yōu)于+/-3%
- 蒸發(fā)速率分辨率：0.01 A/s
- 膜厚分辨率：0.1A
4、應(yīng)用范圍
- 可沉積材料：金屬、半導體、介質(zhì)材料
- 鍍膜類型：可用于沉積單層、多層膜；可共蒸合金膜；可進行LIFT-OFF工藝蒸鍍
- 其他應(yīng)用：低維材料制備
- 適用場景：研發(fā)和中試或量產(chǎn)
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