DE400P 中試-量產 電子束蒸鍍機配備電子束蒸發(fā)源或熱阻蒸發(fā)源，用于沉積金屬或介質薄膜及l(fā)ift-off工藝薄膜沉積，用于批量生產。
1、設備定位
中試與量產專用電子束蒸鍍機，可滿足批量生產及中試階段的鍍膜需求
2、核心功能
- 批量樣品蒸鍍，適配中試及量產場景
- 可沉積金屬、半導體、介質材料
- 可用于沉積單層、多層薄膜
- 支持LIFT-OFF工藝蒸鍍
- 可用于低維材料制備
3、性能優(yōu)勢
- 高真空鍍膜環(huán)境，保障鍍膜純度
- 樣品可加熱，優(yōu)化薄膜附著力與性能
- 優(yōu)質薄膜質量，具備出色的膜厚均勻性和重復性
- 高精度鍍膜速率和膜厚控制，提升產品一致性
4、主要技術指標
- 極限真空壓力：<5E-8Torr
- 大氣抽至5E-7Torr時間：<40分鐘
- 基片尺寸：可選：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
- 片內膜厚均勻性：≤+/-3%
- 片間膜厚重復性：≤+/-2%
5、配置與控制
- 可選離子束清洗或輔助沉積，進一步優(yōu)化鍍膜效果
- PLC+PC全自動控制，操作便捷、穩(wěn)定性高
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