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北京德儀天力科技發(fā)展有限公司

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目錄:北京德儀天力科技發(fā)展有限公司>>磁控濺射真空鍍膜系統(tǒng)>> DE700PVD中試-量產(chǎn) 磁控濺射系統(tǒng)

中試-量產(chǎn) 磁控濺射系統(tǒng)

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品牌 其他品牌
型號(hào) DE700PVD
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
所在地 北京市

屬性

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產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	價(jià)格區(qū)間	面議
應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

DE700PVD 中試-量產(chǎn) 磁控濺射系統(tǒng)，濺射距離可調(diào)，直流、脈沖直流、射頻電源、HiPIMS電源。

詳細(xì)介紹

　　DE700PVD 中試-量產(chǎn) 磁控濺射系統(tǒng)

　　中試-量產(chǎn) 磁控濺射系統(tǒng)

　　1、設(shè)備核心定位

　　用于中試和量產(chǎn)，可實(shí)現(xiàn)高效、高精度薄膜沉積

　　2、核心工作環(huán)境

　　- 高真空濺射環(huán)境

　　3、濺射相關(guān)配置

　　- 多個(gè)濺射源

　　- 濺射距離可調(diào)

　　- 支持多種電源：直流、脈沖直流、射頻電源、HiPIMS電源

　　- 可做反應(yīng)濺射

　　4、樣品處理能力

　　- 批量樣品濺鍍

　　- 樣品可加熱

　　- 樣品可低溫冷卻

　　5、薄膜性能優(yōu)勢

　　- 優(yōu)質(zhì)薄膜質(zhì)量，具備良好的膜厚均勻性和重復(fù)性

　　- 高精度鍍膜速率和膜厚控制

　　- 強(qiáng)薄膜附著力

　　6、可選配置

　　- 可選LOAD LOCK，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)送樣

　　- 可選離子束清洗或輔助沉積

　　7、控制方式

　　- PLC+PC全自動(dòng)控制

　　8、沉積材料與功能

　　- 可沉積金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料

　　- 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜

　　9、鍍膜室主要技術(shù)指標(biāo)

　　- 極限真空壓力：<9E-8Torr

　　- 基片尺寸：可選：3英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸

　　- 可選基片加熱至：600℃

　　- 片內(nèi)膜厚均勻性：≤+/-3%

　　- 片間膜厚重復(fù)性：≤+/-2%

　　10、裝片能力

　　中試-量產(chǎn) 磁控濺射系統(tǒng)

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