高真空碳金一體鍍膜機 參考價：面議
滿足各種掃描電鏡導(dǎo)電膜制備及透射電鏡碳膜制備需求
高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
單靶濺射、雙靶共濺、交替濺射
高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀 參考價：面議
多功能樣品臺支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
單靶濺射、雙靶共濺、交替濺射
高真空磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
配備防污染系統(tǒng)提高樣品鍍膜效果
鍍金鍍碳一體機 參考價：面議
磁控濺射+熱蒸發(fā)鍍碳雙功能
熱蒸發(fā)鍍碳儀 參考價：面議
一鍵操作，全自動鍍碳，碳繩用量自定義
基礎(chǔ)版磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
鍍膜過程樣品無溫升滿足生物等溫度敏感材料的鍍膜需求
磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
磁控濺射鍍膜儀:一鍵鍍膜，全自動操作;7寸觸摸屏，工作參數(shù)實時查看
井式爐 參考價：面議
井式爐采用圓形一體式爐膛，上開蓋模式，因此比箱式爐結(jié)構(gòu)更簡單，性價比高。主要應(yīng)用在利用井式爐爐膛內(nèi)部上部溫度略高于底部溫度的自然溫度梯度場進(jìn)行生長晶體。
KW-4C勻膠機 參考價：面議
KW-4C型智能程控勻膠機是一款集高精度、高安全性與智能操控于一體的勻膠設(shè)備
頻域熱反射顯微測量系統(tǒng) 參考價：面議
設(shè)備介紹允許進(jìn)行多功能和創(chuàng)新的納米級熱分析√ 精確評估薄膜和微粒的導(dǎo)熱系數(shù)√ 使用三維擴散模型揭示各向異性的熱導(dǎo)率√ 量化深層界面的熱邊界導(dǎo)熱系數(shù)√ 在微觀尺度...
高分辨率顯微成像橢偏儀 參考價：1000000
這臺高分辨率顯微成像橢偏儀有別于傳統(tǒng)橢偏儀，這是新一代的顯微成像橢偏儀技術(shù)，它有機地結(jié)合了傳統(tǒng)光譜橢偏儀和光學(xué)顯微鏡技術(shù)，使得我們能夠在小至1μm的微結(jié)構(gòu)上以橢...
多功能高低溫真空探針臺 參考價：100000
多功能高低溫真空探針臺,電-光-氣接口齊全，應(yīng)用場景不受限。可實現(xiàn)寬溫度范圍、高真空或氣氛控制?？膳c各種阻抗分析儀、LCR表、鐵電測試儀、光伏測試儀、半導(dǎo)體參數(shù)...
大尺寸臺式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 參考價：500000
大尺寸臺式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù)，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而...
等離子體增強原子層沉積PEALD 參考價：面議
等離子體增強原子層沉積PEALDAT650P（等離子體增強）/AT650T（熱型）AT650T可在用戶現(xiàn)場升級為AT650P
熱原子層沉積 參考價：面議
小型臺式 ALD（原子層沉積）工具專為簡單的操作和安裝而設(shè)計，而不會犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發(fā)。
桌面原子層沉積系統(tǒng)ALD 參考價：面議
AT-200M（熱原子層沉積系統(tǒng)）
粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD 參考價：面議
粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD
ALD原子層沉積緊湊、經(jīng)濟型 參考價：面議
該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備特別適用于科研用戶的小型臺式設(shè)備。它經(jīng)濟實用、操作簡單、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、售后耗材費用極低、維修便捷、容易操作。ALD專家教授實驗室被廣泛使...
脈沖電閃蒸反應(yīng)器 焦耳熱 參考價：面議
設(shè)備特點：脈沖電閃基反應(yīng)器是集閃蒸焦耳熱系統(tǒng)和快速焦耳熱系統(tǒng)為一體的反應(yīng)系統(tǒng)包括兩個電源系統(tǒng)(大功率電容系統(tǒng)和恒壓電源系統(tǒng))和電壓、電流、溫度實時測試系統(tǒng)。
臺式原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱 參考價：面議
市面上最小的ALD，可放進(jìn)手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統(tǒng)兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。
kashiyama NeoDry-15G 真空泵 無油空壓機 參考價：面議
kashiyama NeoDry-15G 真空泵產(chǎn)品特點:·適合研究室等領(lǐng)域·無負(fù)荷運行噪音小于45dB/36G：50dB（A）·選配Gas Ballast，水...
標(biāo)準(zhǔn)離子研磨儀 參考價：面議
IM4000Ⅱ標(biāo)準(zhǔn)離子研磨儀使用低能量Ar離子束，加工無應(yīng)力損傷的樣品截面，為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、異物解析、層厚測量等提供有效的樣品前處理方...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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