DNK自動近距離曝光系統(tǒng)大日本科研曝光設(shè)備

DNK曝光機的技術(shù)特點核心是靈活的光學(xué)系統(tǒng)、穩(wěn)定的曝光控制以及適配多種工藝，特別適合小批量生產(chǎn)和實驗研究。DNK的曝光機主要用于科研和小批量生產(chǎn)，比如液晶、晶圓、膠片這類材料的實驗和加工。 它支持接觸式和接近式曝光，面板尺寸能做到500×500mm，光源用的是超高壓汞燈，功率從500W到3.5kW不等，光學(xué)系統(tǒng)可以靈活組合鏡片和透鏡來適配不同需求。

一、光學(xué)系統(tǒng)靈活可調(diào)

?光源選擇多樣?：支持500W、1kW、2kW、3.5kW超高壓汞燈，能根據(jù)材料厚度和精度需求靈活搭配。

?光學(xué)組件可定制?：配備多種透鏡和聚光鏡，可優(yōu)化光束均勻性和聚焦效果，適應(yīng)不同尺寸的基板。

二、曝光模式與精度控制

?支持接觸/接近曝光?：接觸式（軟/硬）適合高精度成像，接近式減少基板損傷，兼容性廣。

?自動間隙控制?：MA-1200A等機型能穩(wěn)定控制曝光距離，確保成像一致性。

三、適用場景與工藝

?小批量生產(chǎn)利器?：專為高混合、小批量設(shè)計，適合PCB、FPC、LCD、HDI等行業(yè)。

?實驗研究友好?：支持多種基板尺寸（500×500mm），滿足科研和試制需求。

四、其他實用設(shè)計

?能量均勻性高?：部分型號（如MA-4100）能量均勻性≥90%，提升曝光質(zhì)量。

?結(jié)構(gòu)穩(wěn)固耐用?：采用不銹鋼材質(zhì)，凈重達(dá)900KG，確保設(shè)備穩(wěn)定運行。

DNK自動近距離曝光系統(tǒng)大日本科研曝光設(shè)備

這是一種曝光設(shè)備，將光刻膠涂層基材疊加在遮罩上并烘烤圖案。

主要特征

·自動近距離曝光系統(tǒng)。，實現(xiàn)整個基底的散裝曝光。

·液晶、陶瓷電容、熱頭等都可以配置以滿足你的需求。

·帶有自動校準(zhǔn)功能。(MA-4000)