Hellma CaF2氟化鈣晶體材料用于半導(dǎo)體行業(yè)

時間：2026/3/13閱讀：17

Hellma CaF2氟化鈣晶體材料

CaF2（氟化鈣）是德國Hellma Materials公司開發(fā)的一款高性能光學(xué)晶體材料，作為半導(dǎo)體微光刻領(lǐng)域的常用材料，該材料在光學(xué)精度方面具備較好的行業(yè)表現(xiàn)。憑借從深紫外到紅外的寬譜透射、較低色散及良好的抗輻射性能，Hellma CaF2晶體應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、真空技術(shù)、高功率激光及空間光學(xué)等領(lǐng)域。

核心技術(shù)特性

寬譜透射性能：Hellma CaF2具有從深紫外（130nm）到紅外（8μm）的較寬透射范圍，覆蓋紫外、可見光及紅外全光譜。在準分子激光波長（157nm、193nm、248nm）下展現(xiàn)出良好的透射率，內(nèi)部透射率每10mm厚度可達99.4%以上，是微光刻光學(xué)系統(tǒng)的常用選擇。

低光學(xué)色散：折射率nd為1.43384，阿貝數(shù)vd高達95.23，明顯低于普通光學(xué)玻璃（通常<60），可有效減少色差，實現(xiàn)較好的成像效果和精密光束控制。

高激光耐久性：具備較低的非線性折射率（1.9×10?1? cm2/W @1064nm），可承受數(shù)億次高能激光脈沖照射而不發(fā)生明顯性能衰減，使用壽命表現(xiàn)較好，是準分子激光光學(xué)器件的常用材料。

環(huán)境適應(yīng)性：對高能電離輻射具備合格的抵抗力，熱導(dǎo)率達9.71 W/(m·K)（@20°C），熱膨脹系數(shù)18.41×10??/K，可在太空等環(huán)境下穩(wěn)定工作。

關(guān)鍵性能參數(shù)

光學(xué)均勻性	折射率均勻性<15 ppm（110mm直徑），應(yīng)力雙折射<3 nm/cm RMS
尺寸規(guī)格（單晶）	直徑250mm、厚度150mm
尺寸規(guī)格（多晶）	直徑可達440mm、厚度250mm
晶體結(jié)構(gòu)	立方晶系（螢石結(jié)構(gòu)），空間群Fm3m，晶格常數(shù)a=5.462?
密度	3.18 g/cm3
熔點	1418°C

制造工藝與質(zhì)量控制：Hellma Materials在德國耶拿（圖林根州）工廠采用高純度原料自主生長CaF2單晶，通過真空Stockbarger技術(shù)制備直徑達440mm的大型晶體。所有測量技術(shù)包括激光實驗室均在內(nèi)部完成，保障從晶體生長到成品加工的全流程質(zhì)量控制。晶體可提供<111>、<100>或隨機取向，表面處理包括毛坯、切割、研磨或拋光（平面度達λ/10，光潔度20-10）。

Hellma CaF2氟化鈣晶體材料用于半導(dǎo)體行業(yè)

核心競爭優(yōu)勢

半導(dǎo)體行業(yè)常用材料：作為248nm和193nm微光刻照明與投影光學(xué)系統(tǒng)的關(guān)鍵材料，Hellma CaF2的激光耐久性和光學(xué)均勻性具備較好的行業(yè)認可度。

大尺寸制造能力：具備440mm直徑多晶和250mm單晶的制造能力，可滿足高要求光學(xué)系統(tǒng)的使用需求。

定制化解決方案：可根據(jù)客戶需求提供從材料尺寸、晶體取向到表面質(zhì)量的靈活定制，保障較好的光學(xué)精度和

Hellma CaF2氟化鈣晶體材料用于半導(dǎo)體行業(yè)