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當(dāng)前位置:江西省江崎貿(mào)易有限公司>>光學(xué)-光源電子設(shè)備>>SIGMAKOKI西格瑪>> GMMUHP-49-532SIGMAKOKI西格瑪無(wú)框架反射鏡鏡架
產(chǎn)品型號(hào)GMMUHP-49-532
品 牌SIGMAKOKI/西格瑪光機(jī)
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地萍鄉(xiāng)市
更新時(shí)間:2026-01-04 19:51:56瀏覽次數(shù):507次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)SIGMAKOKI西格瑪鍍膜直角棱鏡 RPB2-15-550
SIGMAKOKI西格瑪Yb強(qiáng)激光用電介質(zhì)膜反射鏡
SIGMAKOKI西格瑪Yb強(qiáng)激光用電介質(zhì)膜反射鏡
SIGMAKOKI西格瑪Yb強(qiáng)激光用電介質(zhì)膜反射鏡
| 供貨周期 | 一個(gè)月以上 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
|---|
SIGMAKOKI西格瑪無(wú)框架反射鏡鏡架
產(chǎn)品中不附有保證面型精度數(shù)據(jù)。需要保證面型精度數(shù)據(jù)文件時(shí),需要額外文件制作費(fèi)用。請(qǐng)至營(yíng)業(yè)部門(mén)問(wèn)詢。
?激光等的直線偏振光射入分光鏡時(shí),反射率或透過(guò)率隨偏振方位發(fā)生變化。需要嚴(yán)格地調(diào)整分束比為1:1時(shí),請(qǐng)45度傾斜偏振光方位或使用圓偏 光。
?多層電解質(zhì)膜的反射率波長(zhǎng)特性隨入射光束的偏光狀態(tài)變化。P偏光與S偏光相比,反射率變低,反射帶譜區(qū)變窄。
?技術(shù)指標(biāo)的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來(lái)表示的。
?用于45°以外的入射角度時(shí),反射率有可能降低。
?在設(shè)計(jì)波長(zhǎng)以外的波長(zhǎng)譜區(qū)使用時(shí),反射率有可能降低
SIGMAKOKI西格瑪無(wú)框架反射鏡鏡架
?無(wú)框反射鏡是在精密拋光的陶瓷上鍍膜,與一般反射鏡的特性相比沒(méi)有差異。
?最大限度地?cái)U(kuò)大反射鏡的有效面積,并且,具有結(jié)構(gòu)緊湊的反射鏡調(diào)整機(jī)構(gòu)。
?反射波面不會(huì)隨溫度變化而變形,適合于精密的光學(xué)系統(tǒng)。
? 這個(gè)產(chǎn)品保證鍍膜后(支架狀態(tài))的面型精度。
?具有高激光損傷閾值,強(qiáng)激光也可使用。
| 激光損傷閾值 | 26.5J/cm2 |
|---|---|
| 鍍膜范圍 | 48×48mm |
| 適用波長(zhǎng) | 532nm |
| 反射鏡部形狀 | 49×49×8.5mm |
| 外形尺寸 | 49×49mm |
| 面型精度保證范圍 | φ30mm |

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