標(biāo)配的高精度激光干涉樣品臺(tái)能夠滿足大行程高精度拼接和套刻需求，為復(fù)雜實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)任務(wù)提供可靠支持。其核心優(yōu)勢(shì)在于成像能力和靈活的掃描模式，可實(shí)現(xiàn)多種矢量掃描方式，包括順序掃描、循環(huán)掃描和螺旋型掃描，同時(shí)支持多圖層自動(dòng)曝光與場(chǎng)校準(zhǔn)功能，滿足多樣化的工藝要求。此外，設(shè)備兼容多種圖形文件格式，并可通過選配附件（如UPS不間斷電源和主動(dòng)減震臺(tái)）進(jìn)一步提升運(yùn)行穩(wěn)定性。無論是新材料研究、前沿物理探索，還是半導(dǎo)體、微電子、光子學(xué)及量子技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用，ZEL304G均表現(xiàn)出色，是科研與工程領(lǐng)域的理想選擇。

• 產(chǎn)品特色

▲ 激光干涉樣品臺(tái)：激光干涉樣品臺(tái)，滿足大行程高精度拼接和套刻需求

▲ 場(chǎng)發(fā)射電子槍：高分辨場(chǎng)發(fā)射電子槍是光刻質(zhì)量的重要保證

▲ 圖形發(fā)生器：在保證超高速掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)超高分辨率圖案繪制

• 應(yīng)用案例

▲均勻性測(cè)試

▲場(chǎng)拼接（游標(biāo)卡尺測(cè)量）和最小線寬測(cè)試

▲HSQ膠

▲PMMA膠

▲厚膠測(cè)試

▲長光柵無縫拼接

▲電子束鄰近效應(yīng)校正功能 · 劑量校正效果