在微納制造、天文觀測、激光技術(shù)等光學應(yīng)用領(lǐng)域，材料的性能直接決定了光學系統(tǒng)的精度、穩(wěn)定性與極限能力。Hellma Materials 依托深耕光學晶體領(lǐng)域的核心技術(shù)，以高純度原料培育氟化鈣（CaF?）單晶，憑借超寬譜透射、超高激光耐久性、光學均勻性等特性，成為深紫外（DUV）/ 真空紫外（VUV）到紅外（IR）全波段光學應(yīng)用的優(yōu)選材料，為光學產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供硬核支撐。

Hellma 氟化鈣單晶的研發(fā)與生產(chǎn)，嚴格遵循 ISO 9001:2015 與 ISO 50001:2018 國際認證標準，從原料甄選到晶體生長、精密加工，全流程實現(xiàn)品質(zhì)可控。我們可定制加工直徑達 440mm、厚度超 100mm 的氟化鈣坯料，透射波段可低至 157nm，適配 248nm、193nm、157nm 等微光刻核心波長需求，更是深紫外準分子激光光學系統(tǒng)的核心材料之選。

核心性能的突破，是 Hellma 氟化鈣單晶的核心競爭力。其具備優(yōu)異的紫外透射率，內(nèi)部透射率超 99.8%，讓光子傳輸大化；超高激光耐久性經(jīng)內(nèi)部專業(yè)分級（LD-A 至 LD-D），可適配不同能量密度、重復頻率的激光工作環(huán)境，激光損傷閾值在 193nm 波段達 7 J/cm2，無懼高強度激光的長期沖擊；低應(yīng)力雙折射與高折射率均勻性（633nm 下 PV 值依直徑精準把控），確保光學成像與光束傳輸?shù)木珳?；同時，氟化鈣單晶實現(xiàn) 130nm 至 9μm 的超寬譜高透射，一舉打通真空紫外、紫外、可見光、紅外全波段應(yīng)用壁壘，成為跨波段光學系統(tǒng)的理想選擇。

從超大規(guī)模集成電路（IC）光刻到通用激光與成像光學，Hellma 氟化鈣單晶憑借豐富的規(guī)格定制能力，全面覆蓋光學應(yīng)用場景。在 IC 光刻領(lǐng)域，無論是直徑達 350mm、厚度 80mm 的光刻制造工具坯料，還是適配準分子激光與光束傳輸系統(tǒng)的晶圓、棱鏡（直徑 / 邊長可達 100mm），均能滿足半導體微納制造的精度要求；在非光刻激光與成像光學領(lǐng)域，我們提供 UV 級（193-400nm）、IR 級（0.78-9.00μm）專屬品級，支持 <111>、<100 > 等定制晶體取向，以及毛胚、切割、研磨、拋光等全系列表面處理工藝，可根據(jù)客戶個性化需求精準定制，適配天文觀測的色差校正光學系統(tǒng)、高清電視變焦鏡頭、顯微鏡、紅外傳感器、光譜儀、醫(yī)用激光等多元場景。

除了的光學性能，Hellma 氟化鈣單晶還具備優(yōu)異的綜合物理化學特性，為實際應(yīng)用提供可靠保障。其為人工合成立方晶系單晶，晶格常數(shù) 0.546342nm，解理面為 (111)，水溶性極低（20℃下僅 0.016g/l），擁有 1420℃的高熔點，熱導率、熱膨脹系數(shù)等熱學性能穩(wěn)定，在溫度變化環(huán)境下折射率變化可通過精準公式量化調(diào)控；機械性能上，維氏硬度 158.3、剪切模量 33.77GPa，兼顧硬度與加工性；表面化學穩(wěn)定性優(yōu)異，氣候抗性、酸抗性等均達行業(yè)高標準，可適應(yīng)復雜工作環(huán)境的長期使用。同時，我們對氟化鈣單晶的應(yīng)力光學系數(shù)、色散特性等關(guān)鍵參數(shù)完成全波段精準測試，提供 Sellmeier 色散公式、折射率溫度系數(shù)公式等完整參數(shù)體系，為客戶光學系統(tǒng)設(shè)計提供精準數(shù)據(jù)支撐。

深耕光學晶體領(lǐng)域，Hellma Materials 以德國本土研發(fā)與生產(chǎn)為核心，構(gòu)建了專業(yè)服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，在北美、日本、法國、意大利、以色列等地區(qū)設(shè)有專屬銷售代表，可為客戶提供快速、專業(yè)的技術(shù)咨詢與定制服務(wù)。從規(guī)格定制、工藝設(shè)計到技術(shù)支持，我們?nèi)谈M，確保每一款氟化鈣單晶產(chǎn)品精準匹配客戶應(yīng)用需求。