迷你型CVD系統(tǒng) 參考價：面議
迷你型CVD系統(tǒng)控溫方式：模糊PID控制和自整定調節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能
回轉CVD系統(tǒng) 參考價：面議
該設備是定制回轉CVD系統(tǒng)，可實現(xiàn)一次加3L粉料進行生產(chǎn)；從結構上共分成主體設備、上料機構、收料機構三大模塊。
間歇式CVD回轉爐 參考價：面議
間歇式CVD回轉爐由控制柜和加熱爐組成，控制柜為密封殼體，內置電路板和氣路板，外部可通過觸摸屏及 手閥操控電路和氣路；加熱爐由一臺三溫區(qū)開啟式管式爐及相應配件組...
立式流化床-多壁碳納米管制備設備 參考價：面議
1、氣體先經(jīng)過氣體預熱爐預熱后進入流化床反應腔體，可以降低大量冷氣流進入腔體對工藝的影響。2、反應器出口配有攪動裝置， 防止碳管在反應器出口堵塞。3、進液口附近...
1600℃多源高溫CVD系統(tǒng) 參考價：面議
這是一臺1600℃多源高溫CVD系統(tǒng)。電氣控制采用內置控溫儀表，其控溫精準且操作直觀簡便。爐管為剛玉管，左端法蘭為進氣端，配有壓力保護組件和2個進氣口，其中一路...
小型浮動催化系統(tǒng)CVD系統(tǒng) 參考價：面議
BTF-1500C-CVD是小型浮動催化系統(tǒng)CVD系統(tǒng)，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下進行實驗；設備配有雙向推拉注射泵、氧分析儀、防爆控制柜、收集罐、密封腔室等組...
多功能回轉CVD系統(tǒng) 參考價：面議
多功能回轉CVD系統(tǒng)由加熱系統(tǒng)、爐管轉動系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)，工控及操作系統(tǒng)等結構組成。
等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng) 參考價：面議
BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑軌等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)。本設備集真空系統(tǒng)、供氣流量系統(tǒng)、自動推進、加熱于一體，并將所有控制集成于觸屏操...
智能型滑軌式CVD系統(tǒng) 參考價：面議
BTF-1200C-SL-L-CVD是一款智能型滑軌式CVD系統(tǒng)。該設備主要分為五大部分：加熱系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，氣體控制供給系統(tǒng)，自動控制移動系統(tǒng)，控制軟件系統(tǒng)組...
立式碳納米管制備設備 參考價：面議
BTF-1200C-3VT-D100是一臺實驗級立式碳納米管制備設備。設備加裝石英管和石英內管（帶砂芯）各一支、三溫區(qū)加熱爐一臺、收集罐及配套的密封上下橫向法蘭...
連續(xù)進出料回轉CVD系統(tǒng) 參考價：面議
該款CVD設備配備加熱系統(tǒng)、進料系統(tǒng)、出料系統(tǒng)、觸摸屏控制系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、平臺升降裝置等。設備廣泛應用于電池正負極材料，無強酸堿性粉體材料，顆粒狀物料...
CVD系統(tǒng) 參考價：面議
CVD系統(tǒng)是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組...
高真空自動循環(huán)設備 參考價：面議
BTF-1200C-HV高真空自動循環(huán)設備內外雙熱電偶控制，內熱電偶制動，使用者可以設定設備循環(huán)溫度點，可根據(jù)內熱電偶測得的溫度制動，推動爐管進出加熱腔體，整個...
碳納米管 參考價：面議
流化床—粉體碳納米管生長設備通過流量計和靜態(tài)混氣室把氣體均勻混拌，通過上通氣，氣體通過雙層管（夾層管預熱氣體，內腔體生長碳納米管）確保通入的氣體進入生長腔體內溫...
復合氧化物氫分離膜制備用CVD設備 參考價：面議
復合氧化物氫分離膜制備用CVD設備，可以實現(xiàn)在多孔氧化鋁陶瓷管和陶瓷片上化學沉積上氧化物（SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2）和復合氧化物（Al2O3-S...
雙爐膛滑動CVD控制系統(tǒng) 參考價：面議
雙爐膛滑動CVD控制系統(tǒng)操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)...
連續(xù)進出料回轉CVD生長設備 參考價：面議
連續(xù)進出料回轉CVD生長設備爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻，可大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0-35°之間。
大三溫區(qū)滑軌CVD系統(tǒng)（低真空、高真空環(huán)境） 參考價：面議
BTF-1200C-III-SL-4ZL大三溫區(qū)滑軌CVD系統(tǒng)（低真空、高真空環(huán)境）控溫方式:模糊PID控制和自整定調節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶...
雙溫區(qū)磁力拉桿設備（固態(tài)源、氣態(tài)源、多源） 參考價：面議
雙溫區(qū)磁力拉桿設備（固態(tài)源、氣態(tài)源、多源）具有兩個獨立的溫場，溫場之外配有磁力拉桿和石英料舟，并配有內探熱電偶，可實現(xiàn)在實驗過程中將固態(tài)源（如硫粉、硒粉等）推進...
雙獨立溫區(qū)滑軌爐CVD設備（可于生長硫化鉬） 參考價：面議
雙獨立溫區(qū)滑軌爐CVD設備（可于生長硫化鉬）提供兩個獨立滑動的溫場，兩溫場獨立控制，每個溫場的加熱區(qū)的長度為230mm，可在實驗過程中推進或推離樣品，提供兩個位...
小三溫區(qū)滑軌CVD 參考價：面議
小三溫區(qū)滑軌CVD控溫方式:模糊PID控制和自整定調節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能.
二維材料制備 參考價：面議
二維材料制備CVD系統(tǒng)前端配有可加熱到400℃的預加熱器，輔助二維材料蒸發(fā)，后端為雙溫區(qū)管式爐，溫度控制精確，操作簡便。并配質量流量計系統(tǒng)和真空系統(tǒng)，可以準確的...
1200℃雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)（低真空、高真空） 參考價：面議
BTF-1200C-II-CVD1200℃雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)（低真空、高真空）是由1200℃雙溫區(qū)開啟式管式爐、三路質量流量計及低真空系統(tǒng)組成，根據(jù)工藝要求亦可選...
低真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
低真空CVD系統(tǒng)是由多通道高精度的質量流量計、低真空機組以及1500度高溫管式爐組成。其廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領域。
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