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瑞士Cytosurge是將原子力系統(tǒng)、微流控系統(tǒng)、細(xì)胞培養(yǎng)系統(tǒng)為體的單細(xì)胞操作系統(tǒng)。主要功能包括單細(xì)胞注射、單細(xì)胞提取以及單細(xì)胞分離。FluidFM OMNIU...

Moorfield Nanotechnology是英國(guó)材料科學(xué)域高性能儀器研發(fā)公司，成立二十多年來(lái)注于高質(zhì)量的薄膜生長(zhǎng)與加工技術(shù)，擁有雄厚的技術(shù)實(shí)力，推出的多種...

原子層沉積（Atomic layer deposition）是將氣相前驅(qū)體脈沖交替通入反應(yīng)器，化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的種方法，是種可以將物質(zhì)以單原...

Moorfield公司近十年來(lái)與曼徹斯大學(xué)諾獎(jiǎng)技術(shù)團(tuán)隊(duì)緊密合作，推出的PVD薄膜制備系列產(chǎn)品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的贊譽(yù)。

Moorfield公司近十年來(lái)與曼徹斯大學(xué)諾獎(jiǎng)技術(shù)團(tuán)隊(duì)緊密合作，推出的薄膜磁控濺射系統(tǒng)系列產(chǎn)品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的贊譽(yù)。

zeroK Nanotech推出的基于低溫銫離子源（Cs+ LoTIS）的新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng)——FIB: ZERO（Cs+ LoTIS）和相應(yīng)的離...

激光加熱基座晶體生長(zhǎng)爐（LHPG）具有無(wú)坩堝、無(wú)污染、溫度梯度大、生長(zhǎng)速度快、適合生長(zhǎng)高熔點(diǎn)的高質(zhì)量晶體等*勢(shì)。

微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)（MPCVD）制造的微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng), 通過(guò)等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率，降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶...

多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的款高精度的磁控濺射噴金儀。

臺(tái)式精準(zhǔn)氣氛\(chéng)壓力控制高溫退火系統(tǒng)ANNEAL可用于二維材料以及襯底、樣品在定氛圍中的高精度熱處理，也可用于其他有高精度熱處理要求的方向。

Moorfield公司近十年來(lái)與曼徹斯大學(xué)諾獎(jiǎng)技術(shù)團(tuán)隊(duì)緊密合作，推出的臺(tái)式高精度薄膜制備與加工系統(tǒng)系列產(chǎn)品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的...

Moorfield臺(tái)式二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH，采用準(zhǔn)確控制技術(shù)，為石墨烯和2D材料的研究提供高精度的加工刻蝕。

Moorfield近推出了臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD，高度集成化的高真空高性能臺(tái)式PVD系統(tǒng)。越、高效的性能適用于眾多薄膜的研究工作。

Moorfield與學(xué)術(shù)界緊密合作研發(fā)的臺(tái)式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列可以用來(lái)快速生產(chǎn)高質(zhì)量的石墨烯用于學(xué)術(shù)和應(yīng)用研究。

新代高性能激光浮區(qū)法單晶爐可廣泛用于凝聚態(tài)物理、化學(xué)、半導(dǎo)體、光學(xué)等多種學(xué)科域相關(guān)單晶材料制備，尤其適合高飽和蒸汽壓、高熔點(diǎn)材料及高熱導(dǎo)率材料等常規(guī)浮區(qū)法單晶爐...

德國(guó)SciDre公司推出的高壓氧氣氛退火爐溫度可達(dá)850°C，壓力可達(dá)150個(gè)大氣壓?？捎糜诟邏壕w生長(zhǎng)的料棒前處理。也可用于含氧晶體的高溫退火處理。

德國(guó)SciDre 高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐能夠提供2200–3000℃以上的生長(zhǎng)溫度，晶體生長(zhǎng)腔壓力可達(dá)300Bar，甚至10-5mBar的高真空。適用于生長(zhǎng)各種超導(dǎo)...

日本ADVANCE RIKO公司致力于電弧等離子體沉積系統(tǒng)（APD）用脈沖電弧放電將電導(dǎo)材料離子化，產(chǎn)生高能離子并沉積在基底上，制備納米薄膜鍍層或納米顆粒。

日本 ADVANCE RIKO公司的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，對(duì)SiC以...

脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)（NEW）等由美國(guó)BlueWave生產(chǎn)，可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue ...