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組織勻漿機(jī)簡介：新型分散機(jī), 處理量為 0.5 - 100ml, 轉(zhuǎn)速, 即使是很小的轉(zhuǎn)子亦可達(dá)到很的線速度. 型優(yōu)美.- 125W 的效馬達(dá), 即使攪拌不同的...

全自動(dòng)多通道勻質(zhì)器廣泛應(yīng)用于農(nóng)產(chǎn)品、食品、魚肉類、飼料、藥品等需要規(guī)模均質(zhì)處理樣品的領(lǐng)域。

臺(tái)式勻膠機(jī)型號(hào)：MHY-28743基片尺寸5-150mm速度范圍 1- 10000RPM轉(zhuǎn) 速精度 1RPM轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度 ±0.1%加速度范圍 1 - 10000...

高速分散均質(zhì)機(jī)采用可控硅速度調(diào)節(jié)系統(tǒng)，使轉(zhuǎn)速從慢到快均勻穩(wěn)速。光電采用了的電子表電路為研究的結(jié)果提供可靠的轉(zhuǎn)速依據(jù)，面板顯示清晰，讀數(shù)直觀，使用方便，廣泛用于各...

微型手持勻漿儀適用范圍：適用于各種植物組織包括根、莖、葉、花、果、種子等樣品的研磨破碎；技術(shù)參數(shù)：轉(zhuǎn)速 15000rpm輸入電壓 AC/220v 50HZ

智能程控勻膠機(jī)精度 指標(biāo)基片尺寸 5-120mm速度范圍 50-10000RPM轉(zhuǎn)速精度 1RPM轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度 ±0.1%加速度范圍 1-10000RPM/S膠均...

靜音無油空氣壓縮機(jī) 電壓（V） 220v 50Hz 率（W） 750 Z壓力（mpa） 0.8 啟動(dòng)壓力（mpa） 0.5 排氣量（m3/min） 0.057

特點(diǎn)：電動(dòng)勻漿機(jī)是供研究單位,大院校、藥防疫站、重業(yè)、農(nóng)業(yè)、環(huán)境衛(wèi)生保護(hù),森林保護(hù)等實(shí)驗(yàn)室行細(xì)碎、勻化、乳化、分散、強(qiáng)烈攪拌、潤溫、溶解有機(jī)物或無機(jī)物等作用。

2000W手提式uv固化機(jī)/對(duì)靜止的UV漆飾物品表面實(shí)現(xiàn)瞬間勻速固化，自然溜平，光潔、平整度、耐摩擦效果佳，對(duì)實(shí)施物品之間的縫隙可達(dá)到密封，形成體，此效果是噴、...

可調(diào)高速勻漿機(jī) 點(diǎn)，1、 采用內(nèi)吸式勻漿結(jié)構(gòu)，速度。夠行對(duì)不相溶的兩液體之間效勻漿、乳化和水中微量有機(jī)化合物、脂溶物及對(duì)有機(jī)溶媒可溶性物質(zhì)的萃取。2、 對(duì)各種動(dòng)...

高壓均質(zhì)機(jī)納米均質(zhì)機(jī)，2.2KW的大率電機(jī)，保證壓下穩(wěn)定作殊的料閥，排氣，直接料內(nèi)置冷卻物質(zhì)循環(huán)系統(tǒng)，直接冷卻均質(zhì)點(diǎn)，所有接觸物料管道均為316L不銹鋼材質(zhì)。

烤膠機(jī)參數(shù)：1、溫度范圍： 室溫-450℃，溫控連續(xù)可調(diào)。2、可設(shè)定配方： 10 段，N 組配方3、外設(shè)： 配方可導(dǎo)出，可外接鼠標(biāo)鍵盤4、恒溫波動(dòng)度： ±0.5...

手動(dòng)壓鈉機(jī)孔徑約1mm,使用時(shí)將金屬鈉剪成長條即可。 便宜實(shí)用，*，*！ 是科研單位、藥物實(shí)驗(yàn)、有機(jī)合成中對(duì)鈉塊行無水無氧擠壓成絲條的理想機(jī)械

的MHY-26174型旋涂機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等，制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動(dòng)迅速等優(yōu)點(diǎn)，并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠...

主要用于液體，膠體的成膜性能試驗(yàn)，表面涂覆。*MHY-26173勻膠機(jī) 電腦（單片機(jī)）控制，可預(yù)置并記憶轉(zhuǎn)速，控制轉(zhuǎn)盤均勻加速；2段式作方式

勻膠機(jī)產(chǎn)品簡介：主要用于液體，膠體的成膜性能試驗(yàn)，表面涂覆。*電腦控制，可預(yù)置并記憶轉(zhuǎn)速，控制轉(zhuǎn)盤均勻加速； 旋轉(zhuǎn)時(shí)間預(yù)置，到時(shí)，控制轉(zhuǎn)盤均勻減速。 *轉(zhuǎn)速:3...

MHY-26377臺(tái)式數(shù)顯勻膠臺(tái)是集成電路、半導(dǎo)體電路、掩模版制、激光息商標(biāo)制過程中用于在基片上行光刻膠涂布的用設(shè)備。

數(shù)顯勻膠臺(tái)本機(jī)是用于半導(dǎo)體、集成電路及激光息商標(biāo)制過程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻（感光）膠的用設(shè)備。本機(jī)的作原理是利用速旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的離...

勻膠機(jī)精度 指標(biāo) 基片尺寸 5-200mm 速度范圍 1-12000RPM 轉(zhuǎn)速精度 1RPM 轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度 ±0.1% 加速度范圍 1-10000RPM/S 膠...

勻膠機(jī)參數(shù) ：1、調(diào)速范圍和勻膠時(shí)間Ⅰ檔　調(diào)速范圍：50-10000轉(zhuǎn)／分，Ⅰ檔　勻膠時(shí)間：0-999秒Ⅱ檔　調(diào)速范圍：50-10000轉(zhuǎn)／分，Ⅱ檔　勻膠時(shí)間：...