大昌洋行(上海)有限公司(大昌華嘉科學(xué)儀器部)
Microtrac應(yīng)用:SYNC激光粒度儀在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用
檢測(cè)樣品:拋光漿料
檢測(cè)項(xiàng)目:粒徑分布
方案概述:在半導(dǎo)體制造過程中,拋光漿料的粒度分布直接影響晶圓表面的平整度。麥奇克(Microtrac)激光粒度儀SYNC能夠精確測(cè)量拋光漿料中磨料的粒徑分布,確保其符合工藝的要求。通過監(jiān)測(cè)漿料的D10、D50、D90等關(guān)鍵參數(shù),可以有效控制拋光質(zhì)量,減少表面缺陷。
麥奇克(Microtrac)激光粒度儀SYNC在半導(dǎo)體行業(yè)中發(fā)揮著至關(guān)重要的角色,其應(yīng)用貫穿于從半導(dǎo)體制造到顯示技術(shù)、電子封裝以及新興電子材料研發(fā)的各個(gè)環(huán)節(jié)。
在半導(dǎo)體制造過程中,拋光漿料的粒度分布直接影響晶圓表面的平整度。麥奇克(Microtrac)激光粒度儀SYNC能夠精確測(cè)量拋光漿料中磨料的粒徑分布,確保其符合工藝的要求。通過監(jiān)測(cè)漿料的D10、D50、D90等關(guān)鍵參數(shù),可以有效控制拋光質(zhì)量,減少表面缺陷。
化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝。麥奇克(Microtrac)激光粒度儀SYNC可監(jiān)測(cè)CMP拋光漿料中顆粒的粒度變化,為工藝優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支持。例如,通過調(diào)整漿料中磨料的粒徑分布,可以優(yōu)化拋光速率和表面質(zhì)量,提高產(chǎn)品良率。
麥奇克(Microtrac)的激光粒度儀SYNC采用靜態(tài)激光衍射法測(cè)量顆粒的大小及分布。采用專利的三激光設(shè)計(jì)(2個(gè)405nm波長(zhǎng)的固體激光器和1個(gè)780nm波長(zhǎng)的固體激光器),得到非常寬的測(cè)試范圍0.01-4000µm,覆蓋了從納米到毫米不同量級(jí)的顆粒測(cè)量。配備全自動(dòng)濕法進(jìn)樣系統(tǒng)FLOWSYNC,可以實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)操測(cè)量和清洗,無(wú)需手動(dòng)清洗。
本文采用麥奇克(Microtrac)的激光粒度儀SYNC來(lái)測(cè)量拋光液的粒徑及其分布。

激光粒度儀SYNC測(cè)量SiO2粒度及其分布

激光粒度儀SYNC測(cè)量CeO2粒度及其分布
從上述數(shù)據(jù)看,麥奇克(Microtrac)的激光粒度儀SYNC除了測(cè)量常規(guī)的微米級(jí)別顆粒,但由于其配置了2個(gè)405nm的激光器,提高了對(duì)亞微米顆粒測(cè)量的準(zhǔn)確性,能夠完全覆蓋納米級(jí)別的顆粒粒徑測(cè)量,而且數(shù)據(jù)的重復(fù)性也非常好,為半導(dǎo)體行業(yè)的客戶提供了最好的顆粒表征儀器。
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