長工作距離顯微鏡的設計思路
下面通過理論依據、方案設計、實際優(yōu)化,最后完成產品闡述長工作距離顯微鏡的設計思路,以及為什么能有優(yōu)秀的光學性能。
1.理論依據——瑞利判據
瑞利判據由瑞利勛爵提出,廣泛用于光學系統(tǒng)(如望遠鏡、顯微鏡)中兩點源的分辨能力評估,通過分辨艾里斑求得光學系統(tǒng)的最大分辨率。
艾里斑:凸透鏡能將入射光聚焦到它的焦點上,但由于透鏡口徑有一定大小,光線透過時會由于波動特性會發(fā)生衍射,無法將光線聚成無限小的焦點上,而只會形成一定能量分布的光斑。中央是明亮的圓斑,周圍有一組較弱的明暗相間的同心環(huán)狀條紋,把其中以第一暗環(huán)為界限的中央亮斑稱為艾里斑(AiryDisk)。下圖為兩個等光強的艾里斑從重疊到逐步分開的影像。

圖3 艾里斑
瑞利判據:在實際應用中,被測物體不是一個點而是一系列物點的集合。每一個物點經過有限直徑的透鏡后,在像平面上都會產生文中開頭提到的艾里斑,如果兩個物點的艾里斑重疊到無法分辨,我們則認為這兩個物點無法被分辨,圖4中讓兩個等光強的非相干點像逐步分開,當兩個點像中心間隔等于艾里斑的半徑R,這樣的艾里斑可以被認為是物點可以被分辨得最小尺寸,這種方式叫瑞利判定(RayleighCriterion)


圖4 瑞利判據分辨
那么我們來計算一下按照瑞利判定,可被分辨的艾里斑的半徑(也就是可以被分辨的最小尺寸)與生成這個艾里斑的光波波長的關系。圖5為原理示意圖。

圖5 瑞利判據計算模型
中間演算過程涉及到冗長的傅里葉級數(shù)變換以及各種函數(shù)方程,最終計算結果為:

公式中λ為使用光線的波長值;n為光路中透鏡對介質的折射率系數(shù);α為入射光束與透鏡光軸間的夾角;NA為數(shù)值孔徑代表折射率系數(shù)與入射光束與透鏡光軸間夾角的積。在波長固定情況下,往往是NA值決定鏡頭的分辨率,NA值越大分辨率越高。
2.長工作距離的理論設計思路
在設計增加工作距離的時,同時要保障鏡頭分辨率,即數(shù)值孔徑(NA)的大小。

n是被測物到鏡頭中間介質的折射率,使用場景必然是在空氣中,值為1.0003,下面也列了幾種常見的介質作為科普。
介質 | 折射率 (n) | 典型應用 |
空氣 | 1.0003 | 普通光學系統(tǒng)參考基準 |
水 | 1.333 | 水浸物鏡、水下成像 |
玻璃 | 1.52-1.95 | 顯微鏡載玻片、光纖芯 |
浸油 | 1.515 | 油浸物鏡 (如NA=1.4) |
鉆石 | 2.417 | 高色散光學元件 |
表4 幾種常見的介質

圖6 數(shù)值孔徑幾何模型
在維持數(shù)值孔徑(NA)恒定的約束條件下,實現(xiàn)工作距離(WD)的擴展需同步增大入瞳孔徑(R)?;趲缀喂鈱W模型

當折射率介質(n)固定時,WD與R呈非線性正相關——WD每增加一個量級,R需以超線性比例放大以補償光錐角度的衰減,這對光學系統(tǒng)的機械公差、像差校正及制造成本提出了更高要求。
要保障NA值不變的前提下,增加工作距離,同時需增大入瞳孔徑。
這樣滿足前文所述的瑞利判據,這樣從理論角度可以實現(xiàn),長工作距離和高分辨的同時兼顧。
3.長工作距離的實際設計思路
在實際光學系統(tǒng)設計中,入瞳孔徑的尺寸無法無限增加,需綜合考量工藝實現(xiàn)性、制造成本及系統(tǒng)空間布局等限制因素?;谏鲜黾s束條件,本研究最終選定4英寸(約101.6 mm)透鏡作為最大口徑的設計方案,以平衡光學性能(如數(shù)值孔徑)與工程可行性。
在顯微鏡的光路設計部分,考慮到有透射式和折反射式兩種思路,下面是兩種方式的特點差異:
透射式顯微鏡特點:當前商用顯微鏡市場以透射式顯微鏡為主導類型,其核心成像機制基于透射光路設計:光源發(fā)出的照明光束穿透樣本后,經由物鏡與目鏡的協(xié)同放大作用形成光學圖像,整個光路方向始終沿透射軸延伸。這種經典光路構型因其結構成熟穩(wěn)定、樣本兼容性強等特點,在生物醫(yī)學檢測、材料分析等領域獲得廣泛應用。
折反射式顯微鏡特點:通過凹面主鏡與凸面副鏡的組合折疊光路,使光線在鏡筒內往返兩次后聚焦,再通過鏡片組完成顯微成像。

圖7 折反射式原理簡易圖
兩種方案對比,折反射式顯微系統(tǒng)雖然設計的難度大,但在相同的成像條件下,體積小,結構輕盈,更好的光學性能,所以選擇用折反射式光學系統(tǒng)設計長工作距離顯微鏡。
經過綜合考慮透鏡邊緣厚度,面型加工的難易之后,經過反復優(yōu)化。最后設計制作出這兩款550、910mm起的長工作距離顯微鏡。
長工作距離顯微鏡創(chuàng)新點和優(yōu)勢點

圖1 WD 550mm和910mm長工作距離顯微鏡
技術創(chuàng)新點:采用折反射式光學架構、工作距離與NA值的優(yōu)化匹配設計。
產品優(yōu)勢特點:色差控制,反射鏡對不同波長光線的反射角度一致,天然消除色差。像差校正,非球面反射鏡(如拋物面、雙曲面)有效抑制球差和彗差,結合多層寬帶鍍膜技術提升透光率。寬光譜設計,工作波段覆蓋350-2000nm。最大像面18mmm,覆蓋1.1"以內的芯片。
型號 | 放大 倍數(shù) | NA | 工作 距離 | 分辨率 (um) |
2× M PLAN APO | 2× | 0.06 | 34 mm | 5 μm |
10× M PLAN APO | 10× | 0.28 | 34 mm | 1 μm |
1× M PLAN APO VIS | 1× | 0.025 | 13.0 mm | 11.0 μm |
2× M PLAN APO VIS | 2× | 0.055 | 34.0 mm | 5.0 μm |
5× M PLAN APO VIS | 5× | 0.15 | 44.85 mm | 2.5 μm |
表1 工作距離相對較長的顯微物鏡參數(shù)
對焦距離 (mm) | 放大 倍率 | 分辨率 (um) | 景深 (um) |
550 | 2.74 | 4.6 | 745 |
700 | 2.25 | 5.6 | 694 |
1000 | 1.64 | 7.6 | 661 |
1300 | 1.28 | 9.8 | 660 |
1500 | 1.11 | 11.3 | 670 |
表2 WD 550mm長工作距離顯微鏡的詳細性能數(shù)據

圖2 WD 550mm長工作距離顯微鏡分辨率板實拍圖
圖二是,WD550mm長工作距離顯微鏡在實驗室光線調節(jié)良好的情況下測試工作距離550mm的數(shù)據,125線對分辨清晰,160線對成像相對較差時,依然可以分辨。分辨率的線對計算方法如下:

計算得出125線對代表像素4um。
對焦距離 (mm) | 放大 倍率 | 分辨率 (um) | 景深 (mm) |
910 | 1.67 | 6.0 | 0.3 |
1300 | 1.55 | 8.3 | 0.35 |
2000 | 0.79 | 12.7 | 1.3 |
4000 | 0.39 | 25.3 | 4 |
10000 | 0.16 | 66.3 | 18 |
表3 WD910mm長工作距離顯微鏡的詳細性能數(shù)據
應用場景
1.工業(yè)制造與質量控制
半導體行業(yè):半導體晶圓檢測(真空腔室觀測),晶體生長和集成電路的監(jiān)測??梢杂脕韺崟r監(jiān)視晶體的生長速度和形態(tài)變化,或對集成電路生產進行在線監(jiān)測。
鋼鐵、玻璃制造過程的監(jiān)測。在生產現(xiàn)場就可以在鋼鐵、玻璃冷卻定型之前就開始進行微觀監(jiān)測和缺陷篩選,以保證產品的質量。
2.醫(yī)療方向
生物反應器原位觀測,醫(yī)療手術與研究??蓮V泛地應用于顯微外科、神經外科、骨科、眼科、皮膚病、燒傷以及五官科等醫(yī)療領域。對于動物試驗,生物醫(yī)學和植物學研究同樣具有極大的實用性。
3.特殊環(huán)境與復雜結構
真空/高溫檢測:
燈泡內燈絲檢測(需密封窗口)、核反應堆材料高溫服役監(jiān)測(如合金709在950℃下的裂紋擴展分析),高溫/高壓環(huán)境過程監(jiān)控。
材料微觀觀測。既可對樣品作靜態(tài)觀測,又能進行動態(tài)觀測,既可以使顯微鏡在樣品上移動觀測,又可以在樣品處于高溫、高濕、有腐蝕性氣體環(huán)境下觀測樣品的微觀變化,如:金屬在高溫下的熱膨脹、裂變、疲勞等的實時觀測。
公安司法鑒定取證。在不破壞現(xiàn)場的條件下,將手印痕跡、爆炸物殘跡等微觀痕跡直接攝錄下來,從而避免因取樣而對現(xiàn)場造成的破壞。
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