可再生能源越來越受歡迎,太陽能產(chǎn)業(yè)正迅速發(fā)展。這種清潔的能源具備為世界供電的巨大潛力,并以驚人的速度增長。CIGS(銅銦鎵硒)太陽能電池是低成本薄膜面板的理想候選材料,其效率已取得顯著提升,目前已超過20%。
CIGS模塊中圖案化溝槽損耗的表征
實現(xiàn)如此高效率的一個關(guān)鍵特性是激光圖案化互連技術(shù),該技術(shù)將尺寸較大的CIGS模塊分割成多個串聯(lián)的小型電池單元。然而,盡管這一工藝有助于提高整體效率,但也會引入能量損失。因此,研究人員正在努力尋找更優(yōu)的圖案化幾何結(jié)構(gòu),以減少這些損耗。
在本項研究中,來自Nice Solar的研究團隊重點關(guān)注了激光刻蝕兩種標準圖案化溝槽(P1:用于背面接觸的圖案化;P2:用于串聯(lián)互連)所造成的損傷。這些損傷通過高光譜光致發(fā)光成像(hyperspectral photoluminescence imaging)進行分析。Photon etc.的全局高光譜平臺(IMA)由光學(xué)顯微鏡、CW 532 nm激光器以及基于體布拉格光柵(volume Bragg gratings)的高光譜濾波器組成。該平臺可在400 nm至1000 nm范圍內(nèi)工作,提供高的光譜分辨率(< 2 nm)和空間分辨率(~1 μm)。傳統(tǒng)的CIGS光致發(fā)光(PL)研究通常采用局部激發(fā)方式,導(dǎo)致電荷向較暗區(qū)域擴散。而全局照明所產(chǎn)生的等勢條件可減輕這種效應(yīng),使測量結(jié)果更接近太陽能電池的實際運行模式。
圖1 - P1線邊緣處異常的PL觀測
a) P1和P2刻蝕線的光學(xué)顯微圖像(上圖),以及從同一位置獲取的高光譜顯微圖像中提取的PL強度圖(下圖);
b) 在980 nm處的單色PL圖像(上圖),以及對P1和P2圖案化線跨過區(qū)域的PL線輪廓(在980 nm處)進行統(tǒng)計分析的結(jié)果(下圖),顯示了P1邊緣PL效應(yīng)的范圍。(僅顯示代表性輪廓;平均值基于25條輪廓計算。)
圖1展示了從高光譜數(shù)據(jù)中提取的P1和P2線附近的PL輪廓。PL圖像顯示,在P1線邊緣附近存在發(fā)射淬滅現(xiàn)象。進一步研究表明,該效應(yīng)導(dǎo)致PL強度下降約30%,且并非由成分變化引起。“這一觀察結(jié)果前所未見,為設(shè)計無P1圖案化線誘導(dǎo)寄生電學(xué)路徑的互連結(jié)構(gòu)提供了新的見解。"這項工作表明,高光譜成像是一種識別損耗并提高CIGS模塊效率的有力工具。
CIGS 微電池中不均勻性的研究
實現(xiàn) CIGS 太陽能電池更高效率的一個障礙,部分源于其多晶結(jié)構(gòu)帶來的電池內(nèi)部不均勻性。為了量化形態(tài)對電池效率的影響,研究其不同性質(zhì)的空間變化至關(guān)重要。
基于此,IPVF(原 IRDEP - 光伏能源研究與發(fā)展研究所)的研究人員通過光致發(fā)光(PL)和電致發(fā)光(EL)的光譜與空間分辨成像,研究了一個直徑為 35 μm 的 CIGS 微電池。為進行此類實驗,他們使用了一臺具有 2 nm 光譜分辨率、空間分辨率接近衍射極限(~μm)的高光譜成像儀(IMA)。在 EL 實驗中采用光源計,施加電壓 Vapp = 0.95 V;在 PL 實驗中使用 532 nm 激光器激發(fā)(激發(fā)波長為 580 nm)。顯微物鏡視場內(nèi)的整個區(qū)域被同時激發(fā),并從一百萬個點同時收集 PL 信號。
圖 2a 和 b 展示了 CIGS 微電池的 PL 和 EL 圖像。通過結(jié)合其光譜分辨的 PL 和 EL 圖譜,并采用光度絕對校準方法,研究人員可以利用廣義普朗克定律提取準費米能級分裂(Δμeff)(見圖 1c 和 d),該參數(shù)直接與電池的電壓相關(guān)。借助太陽能電池與 LED 之間的互易關(guān)系,可從 EL 圖像推導(dǎo)出外部量子效率(EQE)。
能夠在樣品整個表面的微米尺度上獲取基本物理特性,有助于優(yōu)化制造工藝,從而提高電池效率。
圖 2 – 高光譜圖像:a) 積分 PL 發(fā)射,b) 積分 EL 發(fā)射。
利用廣義普朗克定律,可以推導(dǎo)出 c) 和 d) 中的 Δμeff 分布圖。改編自 [3]。
利用高光譜顯微鏡的強大功能:探索IMA
東隆科技總代理的IMA是一款高光譜顯微鏡,可在單一儀器中提供400 nm至1620 nm范圍內(nèi)的光譜和空間信息。通過將科學(xué)級可見光(VIS)、近紅外(NIR)和/或短波紅外(SWIR)顯微鏡與Photon etc.成像濾光片相結(jié)合,可對多種材料進行廣泛的光學(xué)表征。IMA高光譜成像顯微鏡能夠在單次快照中獲取數(shù)百萬個數(shù)據(jù)點,并快速繪制光致發(fā)光(PL)、電致發(fā)光(EL)、熒光、反射率和透射率等圖像。IMA具備靈活配置為明場或暗場高光譜顯微鏡的能力。此外,基于高通量成像濾光片,IMA比傳統(tǒng)的逐點掃描系統(tǒng)更快、更高效。
光伏分析變得簡單:幾分鐘內(nèi)完成PLQY和QFLS成像
隨著新型光伏材料的興起,僅依賴光致發(fā)光量子產(chǎn)率(PLQY)成像已不足以全面評估性能。利用IMA高光譜顯微鏡采集的數(shù)據(jù),IMA的新軟件模塊可讓您只需點擊幾下,即可生成關(guān)鍵的光伏表征圖譜——包括光致發(fā)光量子產(chǎn)率(PLQY)、準費米能級分裂(QFLS)和帶隙能量(Eg),從而獲得更深入、更準確的分析結(jié)果。
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