小型膜厚監(jiān)測儀 參考價：面議
適用于電腦（工控機(jī)）操作控制的電阻熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射等設(shè)備的薄膜測量。
薄膜膜厚監(jiān)測儀 參考價：面議
本膜厚監(jiān)控儀適用于真空電阻熱蒸發(fā)、磁控濺射等鍍膜厚度測量，到達(dá)設(shè)置厚度自動關(guān)閉擋板；通過液晶顯示使您能連續(xù)獲取完整的沉積數(shù)據(jù)，包括速率、厚度和晶體振蕩頻率.1、...
膜厚監(jiān)測儀 參考價：面議
1、本機(jī)可與計(jì)算機(jī)連接。2、顯示儀具有界面簡潔、直觀、合理、操作方便快捷等優(yōu)點(diǎn)，可直觀顯示所測的膜厚、速率、頻率、PWM控制輸出的百分比等工作狀態(tài)。3、通過軟件...
氧濃度監(jiān)測儀 參考價：面議
氧濃度監(jiān)測儀模塊化設(shè)計(jì)，用戶可選配海拔高度測量模塊,氧濃度監(jiān)測儀傳感器不通電不消耗、使用壽命長、易維護(hù)。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻) 參考價：290000
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價：210000
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源功率從500W-1000W不等。
三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 參考價：198000
三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配源功率從500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀） 參考價：235000
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀）是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍...
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻) 參考價：198000
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)典型的高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配直流電源和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 參考價：260000
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價：面議
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)高速低溫濺射。雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的直流電源。
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻） 參考價：168000
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配500W-1000W不等的射頻電源。
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價：212100
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W的直流電源。
小型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：100000
小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選...
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價：189000
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。磁...
可程控磁控濺射鍍膜儀 參考價：265000
可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結(jié)構(gòu)，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量、水冷卻及...
真空磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。真空磁控濺射鍍膜儀廣泛應(yīng)用于科研...
單室磁控濺射鍍膜儀 參考價：210000
單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。磁控濺射鍍膜儀可廣泛應(yīng)用于大專院校、...
磁控濺射鍍膜儀 參考價：390000
磁控濺射鍍膜儀主要由進(jìn)樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機(jī)構(gòu)、抽氣及真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝機(jī)臺等部分組成。此外,CY-in-line磁控濺射升級后，...
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀 參考價：158000
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀 參考價：198000
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，尤其是實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備，?雙靶直流磁控鍍膜儀采用旋轉(zhuǎn)加熱樣...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：259800
雙靶磁控濺射鍍膜儀采用靶下置樣品臺在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個靶位，直流射頻雙電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜...
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 參考價：389500
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等...
分體式單靶磁控鍍膜儀 參考價：269500
本設(shè)備為分體式單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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