二氧化硅薄膜沉積等離子增強CVD系統(tǒng) 參考價：35000
二氧化硅薄膜沉積等離子增強CVD系統(tǒng)由等離子發(fā)生器，三溫區(qū)管式爐、單溫區(qū)管式爐、射頻電源、真空系統(tǒng)組成。等離子增強CVD系統(tǒng)為了使化學反應能在較低的溫度下進行，...
光學薄膜PECVD等離子增強型CVD系統(tǒng) 參考價：26000
CY-PECVD50R-1200-Q是一款光學薄膜PECVD等離子增強型CVD系統(tǒng)。此系統(tǒng)由150W射頻電源、單溫區(qū)管式爐、3通道質子流量計控制系統(tǒng)、性能優(yōu)異的...
桌面型二合一鍍膜儀 參考價：面議
本產品為桌面型二合一鍍膜儀，可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備
1200℃雙溫區(qū)高真空CVD氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃雙溫區(qū)高真空CVD氣相沉積系統(tǒng) 是一種用于制備高性能固體材料薄膜的技術。其核心原理是：將含有構成薄膜元素的一種或幾種氣態(tài)反應物通入反應室，在基片（如硅...
1200℃三溫區(qū)高真空CVD氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃三溫區(qū)高真空CVD氣相沉積系統(tǒng)是一種用于制備高性能固體材料薄膜的技術。其核心原理是：將含有構成薄膜元素的一種或幾種氣態(tài)反應物通入反應室，在基片（如硅片...
1200℃雙溫區(qū)真空CVD氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃雙溫區(qū)真空CVD氣相沉積系統(tǒng)是一種用于制備高性能固體材料薄膜的技術。其核心原理是：將含有構成薄膜元素的一種或幾種氣態(tài)反應物通入反應室，在基片（如硅片）...
微波燒結爐 參考價：面議
該微波燒結爐可實現(xiàn)快速燒結，比傳統(tǒng)燒結大約要節(jié)省2/3的時間。該微波燒結爐是義齒加工****的理想產品。
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜機 參考價：面議
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜機配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
小型高真空等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀 參考價：面議
小型高真空等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
多功能鍍膜儀 參考價：面議
多功能鍍膜儀是我公司獨立研發(fā)的新型產品，既可進行等離子濺射法鍍膜，也可進行蒸發(fā)鍍膜。這款鍍膜儀可以與分子泵或者旋片式真空泵連接以獲取不同的鍍膜環(huán)境，已被廣泛用于...
高真空多弧離子鍍膜儀 參考價：面議
CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀，制備多元非晶合金,制備金屬化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧氣或氮氣氛圍）,制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制...
實驗室多弧離子鍍鍍膜儀 參考價：面議
實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應物沉積在基片上，多弧離子鍍鍍膜儀十分適合鍍硬質...
多弧等離子鍍膜設備 參考價：面議
本設備為多弧等離子鍍膜設備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應物沉積在基片上。本設備配有兩個...
高溫高壓管式爐 參考價：25600
高溫高壓管式爐主要由：加熱系統(tǒng)、耐高溫高壓爐管和壓力測控系統(tǒng)三大部分構成。可以實現(xiàn)自動沖壓，超壓釋放，自動控溫三大功能。高溫管式爐配有工藝軟件，可實現(xiàn)燒結過程中...
多溫區(qū)管式爐 參考價：17800
多溫區(qū)管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度高達1200℃，石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要，可聯(lián)系技術人員定制更大管徑的爐管。本套管式爐為多溫區(qū)加熱...
單溫區(qū)管式爐 參考價：5800
單溫區(qū)管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達1200℃，石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要，可聯(lián)系技術人員定制更大管徑的爐管。管式爐為單溫區(qū)加熱，加...
1700℃管式爐 參考價：5800
1700℃管式爐采用高質量硅鉬棒作為加熱元件，加熱溫度可高達1700℃，爐管管徑為50mm，采用高純氧化鋁制作，耐高溫性能。若客戶有需要，可聯(lián)系技術人員定制更大...
1500℃管式爐 參考價：5600
1500℃管式爐采用高質量碳硅棒作為加熱元件，加熱溫度可達1500℃，爐管管徑為50mm，采用高純氧化鋁制作，耐高溫性能。若客戶有需要，可聯(lián)系技術人員定制更大管...
1500智能型管式爐 參考價：6300
成越科儀生產的1500智能型管式爐采用目前流行的觸摸屏智能控制技術，整機采用模塊化設計，機械結構合理緊湊。該款智能型管式爐的液晶顯示色彩高達26萬色，不僅色彩艷...
1700℃智能型實驗室真空管式爐 參考價：8600
成越科儀生產的1700℃智能型實驗室真空管式爐采用目前行的觸摸屏智能控制技術，整機采用模塊化設計，機械結構合理緊湊。該款智能型真空管式爐的液晶顯示色彩高達26萬...
1700單溫區(qū)真空管式爐 參考價：4500
1700單溫區(qū)真空管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒結、納米...
1700℃單溫區(qū)實驗室真空管式爐 參考價：面議
1700℃單溫區(qū)實驗室真空管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒...
1700℃單溫區(qū)φ80管式爐 參考價：5400
1700℃單溫區(qū)φ80管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒結、...
1200度雙溫區(qū)滑動旋轉管式爐 參考價：7800
1200度雙溫區(qū)滑動旋轉管式爐通過機械傳動控制工作管能360°不間斷旋轉，爐體在支架上能夠前后滑動，可以實現(xiàn)快速升降溫，滑動旋轉管式爐十分適合在氣氛保護的環(huán)境下...
2