MIDAS SYSTEM公司開發(fā)并生產用于半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業(yè)領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國第1家研發(fā)并商業(yè)化光罩對準曝光機的企業(yè)，始終致力于不斷完善、增強技術型企業(yè)的核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業(yè)化的設計團隊，以客戶需要為己任，生產、供應滿足國內外企業(yè)、科研院所不斷增長的應用需求，并且提供半導體工藝相關的設備需要。

MDA-20FA全自動光刻機是一款MIDAS公司新開發(fā)的產品，代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產能力和容易操控。

MDA-20FA

操作簡單，PLC操作，PC控制，圖像采集和數據記錄，100多個程序配方，顯微鏡位置控制系統(tǒng)，自動對齊標記搜索功能

MDA-20FA全自動光刻機

類型：全自動

掩模版尺寸：大尺寸訂制

基板尺寸：大尺寸訂制

均勻光束尺寸：大尺寸訂制

紫外線光源：紫外線燈，2KW，5KW

光束波長：350~450nm

光束均勻度 <±5%

365 nm強度 2千瓦：~25毫瓦/?5千瓦：~45毫瓦/?

對齊方式：全自動

對準精度：1 um

加工方式：軟、硬、真空接觸、接近

過程分辨率：透鏡：>3 um，反射鏡：>9 um