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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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BASIXX ST20+勻膠涂膜機(jī)ST20+ 簡(jiǎn)單介紹：勻膠涂膜機(jī)ST20+ 實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式勻膠機(jī) 是一款緊湊的旋涂，顯影，清潔和干燥半自動(dòng)系統(tǒng)，旨在為科學(xué)和研究領(lǐng)域的用戶提供高效，安全和清潔的實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng)。 該設(shè)備具有易于使用的界面和7英寸彩色觸摸屏。 該軟件包含程序菜單管理，例如編寫(xiě)，編輯，保存和加載。 服務(wù)區(qū)提供用于手臂和旋轉(zhuǎn)板以及介質(zhì)控制的設(shè)置選項(xiàng)。 還集成了可通過(guò)USB保存的軟件更新功能以及日志文件和程序備份功能。 產(chǎn)品型號(hào)：BASIXX ST20+ 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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HT20eUNIXX系列單面烘烤加熱臺(tái) 簡(jiǎn)單介紹：UNIXX系列單面烘烤加熱臺(tái)，HT20e設(shè)計(jì)用于基材的單面烘烤，用于預(yù)烘烤和后烘烤或脫水烘烤過(guò)程。尤其適用于粘合劑底漆（HMDS;六甲基二硅氮烷），可用于蒸汽底漆或真空干燥的熱板模塊。帶有電子可編程升降針的烘烤模塊，配有觸摸屏，便于操作。 軟件提供了簡(jiǎn)單方便的過(guò)程控制和配方創(chuàng)建。 界面簡(jiǎn)單易于使用，可隨時(shí)控制流程。這些溫度模塊有臺(tái)式安裝式，塔式安裝式或獨(dú)立式供選擇。 產(chǎn)品型號(hào)：HT20e 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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MR 200晶圓劃片機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MR200 晶圓劃片機(jī) 手動(dòng)劃線可無(wú)誤切割 結(jié)構(gòu)化硅晶片的制造 MR 200的設(shè)置可為結(jié)構(gòu)化硅晶片切割提供高精度劃線。MR 200是*的工具，特別是對(duì)于半導(dǎo)體技術(shù)中的REM制備。MR 200還適用于少量芯片的單芯片化，例如在實(shí)驗(yàn)室中使用。設(shè)備基本設(shè)置為劃線參數(shù)的調(diào)整提供了多種選擇。高質(zhì)量的變焦光學(xué)元件可將放大倍率從8倍無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)到40倍。光學(xué)和機(jī)械學(xué)可以通過(guò)輔助模塊進(jìn)行擴(kuò)展，以提高效率和操作 產(chǎn)品型號(hào)：MR 200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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M-HP 200M-HP熱板 簡(jiǎn)單介紹：介紹：M-HP熱板 200用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑大為8英寸的晶圓片或大6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺(tái)。工藝參數(shù)（溫度，加熱時(shí)間）可以隨時(shí)更改。 熱板溫度可在20°C和250C之間調(diào)節(jié)?？稍?到999秒之間設(shè)置處理時(shí)間。 產(chǎn)品型號(hào)：M-HP 200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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M-SPIN 200勻膠旋涂?jī)xM-SPIN 簡(jiǎn)單介紹：勻膠旋涂?jī)xM-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂?jī)x適用于直徑大為8英寸的晶圓片，或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動(dòng)工作，分配移動(dòng)托盤(pán)，可定義數(shù)量。該勻膠旋涂?jī)x配備了頂蓋的聯(lián)鎖機(jī)制，和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂?jī)x包含一個(gè)內(nèi)置模塊，該模塊連接到柔性電纜，外接到一個(gè)19英寸外部控件上。 產(chǎn)品型號(hào)：M-SPIN 200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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SRD干燥機(jī)旋轉(zhuǎn)沖洗干燥機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：?旋轉(zhuǎn)沖洗干燥機(jī)用于沖洗和干燥直徑大為12英寸的圓形或大7英寸方形的基材； ?可提供滿足您特定要求的標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)子和定制轉(zhuǎn)子。轉(zhuǎn)子可以輕松快速地更換； ?處理腔室上的儲(chǔ)罐加熱。處理腔室由電拋光不銹鋼制成。包含氮?dú)饧訜幔?br />正面的主開(kāi)關(guān)，機(jī)械門(mén)鎖，PLC彩色觸摸屏和無(wú)刷伺服電機(jī)是標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備的一部分。 產(chǎn)品型號(hào)：SRD干燥機(jī) 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：SCS112型是一款高效率手動(dòng)型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)，專門(mén)設(shè)計(jì)用于在劃片或劃片后清洗晶片，針對(duì)8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模，晶圓和基材的亞微米級(jí)清潔的理想解決方案，針對(duì)10英寸晶圓片。 產(chǎn)品型號(hào)：SCS112/SCSe124/SCSe126 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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CESx124UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。 產(chǎn)品型號(hào)：CESx124 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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XES-70S1太陽(yáng)能模擬器 簡(jiǎn)單介紹：太陽(yáng)能模擬器有效輻照面積：70mm x 70mm。旋轉(zhuǎn)透鏡單元可選擇照射方向（上，下，左，右）?？蛇x擇的輸入功率范圍（100V或220V）。AA*認(rèn)證JIS 8912 / IEC 60904-9（2007）/ ASTM E927-5 。滿足研究的廣泛需求。 產(chǎn)品型號(hào)：XES-70S1 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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XES-50S2便攜式太陽(yáng)能模擬器 簡(jiǎn)單介紹：便攜式太陽(yáng)能模擬器通過(guò)一些性能改進(jìn)優(yōu)化，功能更廣泛，更加貼近客戶使用。AM濾光片可匹配300nm，易于從外部安裝和拆卸AM過(guò)濾器。準(zhǔn)備2個(gè)插槽，可添加帶通濾波器或調(diào)光網(wǎng)狀濾波器，通過(guò)與信號(hào)源計(jì)（Keithley 2400）輕松連接，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程快門(mén)控制?？商砑虞椛涞乃p器（可選）。 產(chǎn)品型號(hào)：XES-50S2 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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XES-40S3便攜式太陽(yáng)能模擬器 簡(jiǎn)單介紹：我們制造的高度準(zhǔn)確的太陽(yáng)模擬器，用于評(píng)估需要重建陽(yáng)光的地方。通過(guò)充分利用這些技術(shù)，我們開(kāi)發(fā)了這種便攜式太陽(yáng)能模擬器，可以輕松地復(fù)制陽(yáng)光。我們的設(shè)備是針對(duì)研究目的進(jìn)行初始評(píng)估和檢查的完美解決方案。 產(chǎn)品型號(hào)：XES-40S3 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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XHS-50S1高光譜匹配太陽(yáng)能模擬器（兩燈型）50mm 簡(jiǎn)單介紹：高光譜匹配太陽(yáng)能模擬器（兩燈型）50mm通過(guò)采用氙氣燈和鹵素?zé)舻膬蓚€(gè)光源，實(shí)現(xiàn)了接近日光的高光譜匹配。除了8英寸的模型外，還開(kāi)發(fā)了一個(gè)小模型照射面積50mm。 產(chǎn)品型號(hào)：XHS-50S1 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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8060/4060/PM450手動(dòng)探針臺(tái) 簡(jiǎn)單介紹：手動(dòng)探針臺(tái) P300J電動(dòng)手動(dòng)探針臺(tái)：電動(dòng)手動(dòng)探針臺(tái)，300mm，-55到300℃ P300A半自動(dòng)探針臺(tái)：專為低電流、亞微米定位應(yīng)用而設(shè)計(jì)，300mm，-55到300℃ 產(chǎn)品型號(hào)：8060/4060/PM450 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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P200L/P300L電動(dòng)手動(dòng)探針臺(tái) 簡(jiǎn)單介紹：電動(dòng)手動(dòng)探針臺(tái) P300J電動(dòng)手動(dòng)探針臺(tái)：電動(dòng)手動(dòng)探針臺(tái)，300mm，-55到300℃ P300A半自動(dòng)探針臺(tái)：專為低電流、亞微米定位應(yīng)用而設(shè)計(jì)，300mm，-55到300℃ 產(chǎn)品型號(hào)：P200L/P300L 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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P200L/P300L半自動(dòng)探針臺(tái) 簡(jiǎn)單介紹：P200L半自動(dòng)探針臺(tái)：半自動(dòng)探針臺(tái)，200mm，-65到400℃， P300L半自動(dòng)探針臺(tái)：半自動(dòng)探針臺(tái)，300mm，-55到300℃ 產(chǎn)品型號(hào)：P200L/P300L 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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2210-LSLS 通用探針臺(tái) 簡(jiǎn)單介紹：2210-LS 通用探針臺(tái)：通用型探針臺(tái)，室溫可達(dá)24寸，高溫或低溫可達(dá)18英寸，300mm以下晶圓，溫度-400到125℃ 產(chǎn)品型號(hào)：2210-LS 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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LabProLP全自動(dòng)真空熱壓機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：LP全自動(dòng)真空熱壓機(jī)系列50/200/400/600/1500是根據(jù)客戶特定要求定制的壓力機(jī)。 ?有多種選擇：多種開(kāi)口配置、壓板材料、壓板尺寸、熱源、自動(dòng)排氣循環(huán)、冷卻、冷凝器、冷卻器、控制系統(tǒng)、真空條件下制備樣品 真空室（30-40 mbar）、低壓范圍（1-10 kN）的浮動(dòng)上壓板、高達(dá)700°C的高溫，冷卻系統(tǒng) 產(chǎn)品型號(hào)：LabPro 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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LabEcon系列LabEcon自動(dòng)加熱型壓片機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：LabEcon系列300/600/1000專為基本沖壓操作而設(shè)計(jì) 通過(guò)對(duì)生產(chǎn)批次取樣來(lái)檢驗(yàn)橡膠質(zhì)量。將樣品壓入模具中，硫化后，橡膠測(cè)試條可用于拉伸試驗(yàn)，或測(cè)試密度、門(mén)尼粘度、灰分、溴和氯含量等 能夠?qū)?fù)合材料進(jìn)行重要的突破性和行業(yè)的研究。有助于開(kāi)發(fā)輕型復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制造技術(shù)，例如航空航天（無(wú)人駕駛飛機(jī)結(jié)構(gòu)）和汽車(chē)工業(yè)應(yīng)用（跑車(chē)車(chē)身） 產(chǎn)品型號(hào)：LabEcon系列 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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LabManuel 300系列LabManuel 300進(jìn)口熱壓機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：LabManuel 300進(jìn)口熱壓機(jī) 通過(guò)對(duì)生產(chǎn)批次取樣來(lái)檢驗(yàn)橡膠質(zhì)量。將樣品壓入模具中，硫化后，橡膠測(cè)試條可用于拉伸試驗(yàn)，或測(cè)試密度、門(mén)尼粘度、灰分、溴和氯含量等 能夠?qū)?fù)合材料進(jìn)行重要的突破性和行業(yè)的研究。有助于開(kāi)發(fā)輕型復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的制造技術(shù)，例如航空航天（無(wú)人駕駛飛機(jī)結(jié)構(gòu)）和汽車(chē)工業(yè)應(yīng)用（跑車(chē)車(chē)身） 產(chǎn)品型號(hào)：LabManuel 300系列 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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Model. S410近紅外光譜儀 簡(jiǎn)單介紹：帶有光柵透射的Model. S410近紅外光譜儀主要用于石化和食品工業(yè)。典型的應(yīng)用包括辛烷值，EP值和其他碳?xì)浠衔锓治觥?/div> 產(chǎn)品型號(hào)：Model. S410 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-02 |
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